论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 压电薄膜材料简介 | 第14-22页 |
| 1.2.1 ZnO薄膜材料特性及应用 | 第14-17页 |
| 1.2.1.1 ZnO薄膜的结构及特性 | 第14-15页 |
| 1.2.1.2 ZnO薄膜的应用 | 第15-17页 |
| 1.2.2 AlN薄膜材料特性及应用 | 第17-19页 |
| 1.2.2.1 AlN薄膜的结构及特性 | 第17-18页 |
| 1.2.2.2 AlN薄膜的应用 | 第18-19页 |
| 1.2.3 PZT薄膜材料特性及应用 | 第19-22页 |
| 1.2.3.1 PZT薄膜的结构及特性 | 第19-21页 |
| 1.2.3.2 PZT薄膜的应用 | 第21-22页 |
| 1.3 压电薄膜制备方法 | 第22-25页 |
| 1.3.1 磁控溅射 | 第22-23页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积 | 第23页 |
| 1.3.3 分子束外延 | 第23-24页 |
| 1.3.4 溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| 1.3.5 金属有机物化学气相沉积 | 第24-25页 |
| 1.4 压电复合薄膜的国内外研究现状 | 第25-28页 |
| 1.5 本论文研究意义和研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 薄膜样品制备与结构和性能表征 | 第30-38页 |
| 2.1 薄膜制备与晶化处理系统 | 第30-33页 |
| 2.1.1 薄膜磁控溅射系统 | 第30-32页 |
| 2.1.2 薄膜晶化处理系统 | 第32-33页 |
| 2.2 薄膜制备工艺 | 第33-34页 |
| 2.2.1 PZT薄膜制备 | 第33页 |
| 2.2.2 ZnO/PZT复合薄膜制备 | 第33-34页 |
| 2.2.3 AlN/PZT复合薄膜制备 | 第34页 |
| 2.3 薄膜结构和微观形貌表征方法 | 第34-36页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第34页 |
| 2.3.2 激光拉曼光谱分析 | 第34-35页 |
| 2.3.3 原子力显微镜 | 第35页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜 | 第35-36页 |
| 2.4 薄膜电学性能表征方法 | 第36-38页 |
| 2.4.1 电压-电流性能测试(I-V) | 第36页 |
| 2.4.2 介电性能测试(C-V) | 第36页 |
| 2.4.3 铁电性能测试 | 第36-37页 |
| 2.4.4 压电性能测试 | 第37-38页 |
| 第三章 PZT薄膜制备及性能研究 | 第38-58页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 PZT薄膜制备技术研究 | 第38-39页 |
| 3.3 PZT薄膜性能与制备工艺关系研究 | 第39-50页 |
| 3.3.1 溅射功率对薄膜结构成分以及电学特性的影响 | 第39-43页 |
| 3.3.2 衬底温度对薄膜结构成分以及电学特性的影响 | 第43-47页 |
| 3.3.3 溅射气氛对薄膜结构成分以及电学特性的影响 | 第47-50页 |
| 3.4 PZT薄膜后处理性能研究 | 第50-56页 |
| 3.4.1 退火温度对薄膜结构成分以及电学特性的影响 | 第50-53页 |
| 3.4.2 退火时间对薄膜结构成分以及电学特性的影响 | 第53-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 ZnO/PZT复合薄膜制备及性能研究 | 第58-81页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 PZT基ZnO薄膜制备技术研究 | 第58-59页 |
| 4.3 PZT基ZnO薄膜性能与制备工艺关系研究 | 第59-70页 |
| 4.3.1 溅射功率对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第59-64页 |
| 4.3.2 衬底温度对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第64-67页 |
| 4.3.3 溅射气氛对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第67-70页 |
| 4.4 PZT基ZnO薄膜后处理性能研究 | 第70-79页 |
| 4.4.1 退火温度对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第70-74页 |
| 4.4.2 退火气氛对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第74-77页 |
| 4.4.3 退火时间对薄膜结构成分以及表面形貌的影响 | 第77-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 AlN/PZT复合薄膜制备及性能研究 | 第81-107页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 PZT基AlN薄膜制备技术研究 | 第81-82页 |
| 5.3 PZT基AlN薄膜性能与制备工艺关系研究 | 第82-100页 |
| 5.3.1 溅射功率对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第82-86页 |
| 5.3.2 溅射气氛对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第86-90页 |
| 5.3.3 衬底温度对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第90-95页 |
| 5.3.4 溅射气压对薄膜结构成分以及性能的影响 | 第95-100页 |
| 5.4 AlN/ZnO复合薄膜的制备及性能研究 | 第100-106页 |
| 5.4.1 ZnO缓冲层对AlN薄膜结构组成的影响 | 第101-102页 |
| 5.4.2 ZnO缓冲层对AlN薄膜微观形貌的影响 | 第102-104页 |
| 5.4.3 ZnO缓冲层对AlN/ZnO复合薄膜电学性能的影响 | 第104-106页 |
| 5.5 本章小结 | 第106-107页 |
| 第六章 PZT薄膜参数对复合薄膜的结构及性能影响研究 | 第107-127页 |
| 6.1 引言 | 第107-108页 |
| 6.2 复合薄膜性能随PZT厚度变化研究 | 第108-118页 |
| 6.2.1 PZT厚度对ZnO/PZT复合薄膜结构以及电学特性的影响 | 第108-113页 |
| 6.2.2 PZT厚度对AlN/PZT复合薄膜结构以及电学特性的影响 | 第113-118页 |
| 6.3 复合薄膜性能随PZT取向变化研究 | 第118-125页 |
| 6.3.1 PZT取向对AlN/PZT复合薄膜结构以及电学特性的影响 | 第118-122页 |
| 6.3.2 PZT取向对ZnO/PZT复合薄膜结构以及电学特性的影响 | 第122-125页 |
| 6.4 本章小结 | 第125-127页 |
| 第七章 结论 | 第127-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-144页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第144-145页 |
