论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-43页 |
| · 纳米碳管／有机光电功能复合材料的研究进展 | 第13-22页 |
| · 共混掺杂法 | 第15-17页 |
| · 接枝法 | 第17-19页 |
| · 填充法 | 第19-20页 |
| · 包覆法 | 第20-21页 |
| · 小结 | 第21-22页 |
| · 纳米碳管用于红外探测的研究 | 第22-30页 |
| · 光电导红外探测器的原理 | 第22页 |
| · 制备光电导红外探测器的无机材料 | 第22-23页 |
| · 纳米碳管与红外探测 | 第23-28页 |
| · 具有可调能带的纳米碳管 | 第23-24页 |
| · 有序纳米碳管阵列及其制备 | 第24-25页 |
| · 与红外探测相关的电子和结构特性 | 第25-26页 |
| · 纳米碳管阵列用于红外探测的探索 | 第26-28页 |
| · 可用于红外探测的稀土酞菁／纳米碳管复合材料 | 第28-30页 |
| · 近红外响应有机光敏材料 | 第28页 |
| · 有机半导体材料中的光致电荷转移 | 第28-30页 |
| · 纳米碳管／有机半导体复合材料体系的光致电荷转移 | 第30页 |
| · 电化学沉积在制备半导体纳米线、薄膜中的应用 | 第30-34页 |
| · 制备半导体纳米线、薄膜的方法 | 第30-31页 |
| · 电化学沉积制备半导体纳米线、薄膜的研究进展 | 第31-34页 |
| · 电化学沉积制备导电聚合物纳米线、薄膜 | 第32-34页 |
| · 电化学沉积制备纳米碳管薄膜 | 第34页 |
| · 课题的提出及其意义 | 第34-36页 |
| · 课题的提出 | 第34-35页 |
| · 课题的意义 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-43页 |
| 第二章 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料光电导性能的研究 | 第43-58页 |
| · 纳米碳管的化学修饰 | 第43-47页 |
| · 实验材料 | 第43-44页 |
| · 纳米碳管的化学修饰 | 第44页 |
| · 纳米碳管化学修饰产物的表征 | 第44-45页 |
| · 纳米碳管与聚合物的相容性和在有机溶剂中的分散性 | 第45-47页 |
| · 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的制备与光电导性能研究 | 第47-54页 |
| · 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的制备 | 第47页 |
| · 双层感光体的制备与光电导性能测试 | 第47-48页 |
| · 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料的光电导性能研究 | 第48-54页 |
| · 复合材料的光敏性 | 第48-50页 |
| · 复合材料的吸收光谱 | 第50-51页 |
| · 复合材料的XPS光电子能谱研究 | 第51-52页 |
| · 酞菁光电导过程中的分子内电荷转移 | 第52-53页 |
| · 纳米碳管／酞菁氧钛复合材料分子间的光致电荷转移 | 第53-54页 |
| · 本章结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第三章 纳米碳管／稀土酞菁一维有序复合物的制备与性能研究 | 第58-83页 |
| · 稀土酞菁的合成与表征 | 第58-64页 |
| · 稀土酞菁的合成 | 第58-61页 |
| · 无水氯化物的制备 | 第59页 |
| · 稀土酞菁的合成 | 第59-60页 |
| · 产物的纯化 | 第60-61页 |
| · 稀土酞菁的表征 | 第61-63页 |
| · 元素分析 | 第61页 |
| · FTIR表征 | 第61-62页 |
| · Uv-Vis表征 | 第62-63页 |
| · NIR表征 | 第63页 |
| 小结 | 第63-64页 |
| · 毛细管浸润填充法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第64-71页 |
| · 纳米碳管的润湿、填充机理 | 第64-65页 |
| · 毛细管浸润填充法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第65-70页 |
| · 由填充时间控制纳米碳管中酞菁铒的形态 | 第65-67页 |
| · 由纳米碳管模板控制酞菁铒的形态 | 第67-68页 |
| · 纳米碳管／酞菁铒一维杂化材料的FTIR表征 | 第68-69页 |
| · 酞菁铒填充纳米碳管的XRD表征 | 第69-70页 |
| · 纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物的近红外光敏性研究 | 第70-71页 |
| · 相分离法制备纳米碳管／酞菁铒一维有序复合物 | 第71-79页 |
| · 纳米碳管为模板自组装制备酞菁铒纳米线与表征 | 第71-74页 |
| · 透射电镜表征 | 第72-73页 |
| · XRD表征 | 第73-74页 |
| · 纳米碳管／酞菁铒杂化纳米线的光电导性能 | 第74-76页 |
| · 纳米碳管与酞菁铒间的电子相互作用 | 第76-79页 |
| · 本章结论 | 第79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 第四章 真空蒸镀制备稀土酞菁薄膜的聚集态结构与光敏性研究 | 第83-97页 |
| · 稀土酞菁薄膜的制备 | 第83页 |
| · 结果与讨论 | 第83-94页 |
| · 稀土酞菁薄膜的表面形貌 | 第83-88页 |
| · 薄膜厚度的影响 | 第83-86页 |
| · 基片温度的影响 | 第86-88页 |
| · 稀土酞菁薄膜的聚集态结构 | 第88-91页 |
| · 薄膜的XRD表征 | 第88-90页 |
| · 薄膜中稀土酞菁分子的排列方式 | 第90-91页 |
| · 稀土酞菁的光敏性 | 第91-94页 |
| · Uv-Vis吸收光谱 | 第91-93页 |
| · NIR吸收光谱 | 第93-94页 |
| · 本章结论 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第五章 电泳沉积制备稀土酞菁与纳米碳管薄膜 | 第97-138页 |
| · 电泳沉积制备稀土酞菁薄膜 | 第97-121页 |
| · 稀土酞菁的电泳沉积过程 | 第97-98页 |
| · 溶液的配制 | 第97-98页 |
| · 电极的清洗 | 第98页 |
| · 电泳沉积 | 第98页 |
| · 稀土酞菁电泳沉积的机理 | 第98-102页 |
| · 稀土酞菁的可逆质子化、去质子化过程 | 第99-100页 |
| · 紫外-可见光谱分析 | 第100-101页 |
| · 循环伏安表征 | 第101-102页 |
| · 影响稀土酞菁薄膜形态的因素和调控方法 | 第102-112页 |
| · 沉积时间 | 第103-105页 |
| · 电场强度 | 第105-107页 |
| · 溶液浓度 | 第107-108页 |
| · 外场一磁场的影响 | 第108-110页 |
| · 硅基上的电泳沉积 | 第110-112页 |
| · 电泳沉积稀土酞菁薄膜的成核机理 | 第112-114页 |
| · 稀土酞菁薄膜的光敏性研究 | 第114-115页 |
| · 稀土酞菁薄膜的聚集态结构 | 第115-121页 |
| · XRD表征 | 第115-118页 |
| · 从激子模型来分析稀土酞菁分子的聚集态结构 | 第118-121页 |
| · 稀土酞菁光电功能薄膜的应用 | 第121-127页 |
| · 稀土酞菁／苝四酸酐P-N结复合膜的光伏性质 | 第121-125页 |
| · 有机／聚合物P-N结太阳能电池 | 第121-122页 |
| · 稀土酞菁／苝四酸酐P-N结太阳能电池 | 第122-125页 |
| · 稀土酞菁薄膜的电致变色性质 | 第125-127页 |
| · 电泳沉积制备纳米碳管薄膜及其与稀土酞菁的复合膜 | 第127-132页 |
| · 纳米碳管薄膜的制备 | 第127-129页 |
| · 纳米碳管／稀土酞菁复合薄膜的制备 | 第129-131页 |
| · 纳米碳管／稀土酞菁复合薄膜的近红外光敏性 | 第131-132页 |
| · 本章结论 | 第132页 |
| 参考文献 | 第132-138页 |
| 第六章 主要结论与创新点 | 第138-140页 |
| 附录 | 第140-146页 |
| 攻读博士学位期间取得的科研成果 | 第146-148页 |
| 致谢 | 第148
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