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BST热释电薄膜材料及在红外探测器中的应用基础研究

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BST热释电薄膜材料及在红外探测器中的应用基础研究
论文目录
 
摘要第1-7 页
ABSTRACT第7-12 页
第一章 绪论第12-27 页
  · 引言第12-13 页
  · 热释电红外探测器第13-20 页
    · 工作原理第14-15 页
    · 工作模式第15-16 页
    · 主要参数第16-20 页
  · 热释电红外探测器的应用及发展第20-24 页
    · 应用特点第20-22 页
    · 陶瓷型热释电红外探测器第22 页
    · 薄膜型热释电红外探测器第22-24 页
  · 热释电薄膜及探测器研究状况第24-26 页
    · 国外研究现状第24-25 页
    · 国内研究现状第25-26 页
  · 本论文主要工作第26-27 页
第二章 实验方法第27-40 页
  · BST薄膜制备方法第27-28 页
    · RF溅射原理第27 页
    · 倒筒靶RF溅射系统第27-28 页
  · 微观结构分析方法第28-31 页
    · XRD第28-29 页
    · SEM第29-30 页
    · AFM第30-31 页
  · 电性能测试第31-37 页
    · 介电性能测试第31-33 页
    · 热释电系数测试第33-35 页
    · 漏电流测试第35-37 页
  · 微细加工工艺第37-40 页
    · 光刻工艺第37 页
    · 图形化方法第37-40 页
第三章 BST热释电薄膜的制备第40-71 页
  · 引言第40-41 页
  · 新型倒筒靶RF溅射枪研究第41-48 页
    · 倒筒靶RF磁控溅射第41-42 页
    · 倒筒靶溅射装置第42-43 页
    · 传统倒筒靶溅射枪第43-46 页
    · 新型倒筒靶溅射枪第46-48 页
  · BST薄膜制备工艺条件研究第48-56 页
    · 沉积速度第49-52 页
    · 沉积温度第52-53 页
    · 后退火温度第53-54 页
    · 后退火时间第54-56 页
  · BST薄膜低温自缓冲层技术第56-69 页
    · Pt/BST界面粗糙度第57-61 页
    · Pt(111)/BST(001)异质生长第61-62 页
    · 低温自缓冲层技术第62-69 页
  · 本章小结第69-71 页
第四章 BST薄膜TDDB机理与调控方法研究第71-96 页
  · 引言第71 页
  · 理论基础第71-78 页
    · 导电机理第71-76 页
    · SiO_2薄膜的TDDB第76-78 页
  · PT/BST/NICR导电机理第78-84 页
    · 正偏压导电机理第78-79 页
    · 负偏压导电机理第79-83 页
    · Pt/BST/NiCr的微观特征第83-84 页
  · TDDB机理研究第84-91 页
  · TDDB调控方法第91-94 页
  · 本章小结第94-96 页
第五章 BST薄膜红外探测器研究第96-108 页
  · 引言第96 页
  · BST薄膜红外探测器制作第96-99 页
    · 探测器结构与制作流程第96-98 页
    · 探测器制作第98-99 页
  · BST薄膜探测器光电响应测试第99-106 页
    · 测试系统第99-102 页
    · 测试要求第102-103 页
    · 测试结果第103-106 页
  · 本章小结第106-108 页
第六章 结论和展望第108-112 页
  · 主要结论第108-110 页
  · 主要创新点第110 页
  · 前景展望第110-112 页
致谢第112-113 页
参考文献第113-121 页
在读期间取得的研究成果第121-123 页

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