论文目录 | |
| 中文摘要 | 第11-14页 |
| 英文摘要 | 第14-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-51页 |
| 1.1 研究背景 | 第16页 |
| 1.2 TiO_2半导体材料概述 | 第16-23页 |
| 1.2.1 TiO_2半导体结构与特性 | 第16-18页 |
| 1.2.2 TiO_2半导体材料的制备 | 第18-23页 |
| 1.2.2.1 静电纺丝法 | 第18-19页 |
| 1.2.2.2 模板法 | 第19-20页 |
| 1.2.2.3 阳极氧化法 | 第20-23页 |
| 1.3 TiO_2半导体材料的修饰 | 第23-29页 |
| 1.3.1 金属离子掺杂 | 第23-25页 |
| 1.3.2 非金属掺杂 | 第25-26页 |
| 1.3.3 贵金属负载 | 第26-27页 |
| 1.3.4 半导体复合 | 第27-29页 |
| 1.4 TiO_2半导体复合材料的应用 | 第29-32页 |
| 1.4.1 光催化降解 | 第29-30页 |
| 1.4.2 光解水制氢 | 第30页 |
| 1.4.3 太阳能电池 | 第30-31页 |
| 1.4.4 其他应用 | 第31-32页 |
| 1.5 TiO_2半导体材料在光生阴极保护中的应用 | 第32-35页 |
| 1.5.1 金属腐蚀及其防护措施 | 第32-33页 |
| 1.5.2 光生阴极保护效应 | 第33-34页 |
| 1.5.3 储能型TiO_2复合材料的光生阴极保护效应 | 第34-35页 |
| 1.6 本工作的研究内容和目的 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-51页 |
| 第二章 实验技术和仪器 | 第51-57页 |
| 2.1 试剂与材料 | 第51页 |
| 2.1.1 试剂 | 第51页 |
| 2.1.2 材料 | 第51页 |
| 2.2 TiO_2纳米膜的制备 | 第51-52页 |
| 2.2.1 TiO_2纳米管阵列膜 | 第51-52页 |
| 2.2.2 TiO_2纳米管复合膜 | 第52页 |
| 2.3 403不锈钢试样的制备 | 第52-53页 |
| 2.4 表征和光电化学性能测试 | 第53-54页 |
| 2.4.1 形貌表征 | 第53页 |
| 2.4.2 X射线衍射(XRD) | 第53页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第53页 |
| 2.4.4 紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱 | 第53-54页 |
| 2.4.5 光致发光(PL)谱 | 第54页 |
| 2.4.6 暂态光电流 | 第54页 |
| 2.5 光生阴极保护效应测试 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第三章 储能型Ag/SnO_2/TiO_2复合膜的制备及其光生阴极保护效应 | 第57-76页 |
| 3.1 引言 | 第57-58页 |
| 3.2 实验部分 | 第58-59页 |
| 3.2.1 Ag/SnO_2/TiO_2纳米管复合膜的制备 | 第58页 |
| 3.2.2 表征及光电化学测试 | 第58-59页 |
| 3.2.3 光生阴极保护测试 | 第59页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第59-69页 |
| 3.3.1 形貌和组成 | 第59-60页 |
| 3.3.2 XPS分析 | 第60-61页 |
| 3.3.3 XRD分析 | 第61-62页 |
| 3.3.4 UV-Vis吸收光谱 | 第62-64页 |
| 3.3.5 PL谱 | 第64-65页 |
| 3.3.6 光电化学特性 | 第65页 |
| 3.3.7 光生阴极保护效应 | 第65-68页 |
| 3.3.8 复合膜中电荷转移机理 | 第68-69页 |
| 3.4 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 第四章 ZnSe/MoO_3/TiO_2复合膜的制备及其光生阴极保护效应 | 第76-94页 |
| 4.1 引言 | 第76-77页 |
| 4.2 实验 | 第77-78页 |
| 4.2.1 ZnSe/MoO_3/TiO_2复合膜的制备 | 第77-78页 |
| 4.2.2 样品表征及光电化学测试 | 第78页 |
| 4.2.3 光生阴极保护性能测试 | 第78页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第78-88页 |
| 4.3.1 形貌 | 第78-79页 |
| 4.3.2 XRD分析 | 第79-80页 |
| 4.3.3 XPS分析 | 第80-81页 |
| 4.3.4 UV-Vis吸收谱和PL谱 | 第81-83页 |
| 4.3.5 光电化学特性 | 第83-84页 |
| 4.3.6 光生阴极保护效应 | 第84-87页 |
| 4.3.7 复合膜电荷分离转移机理 | 第87-88页 |
| 4.4 结论 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-94页 |
| 第五章 g-C_3N_4/MoO_3/TiO_2复合膜的制备及其光生阴极保护效应 | 第94-108页 |
| 5.1 引言 | 第94-95页 |
| 5.2 实验 | 第95-96页 |
| 5.2.1 g-C_3N_4/MoO_3/TiO_2复合膜的制备 | 第95-96页 |
| 5.2.2 样品表征及光电化学测试 | 第96页 |
| 5.2.3 光生阴极保护性能测试 | 第96页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第96-103页 |
| 5.3.1 形貌 | 第96-97页 |
| 5.3.2 EDS和XPS分析 | 第97-98页 |
| 5.3.3 UV-Vis谱和PL谱 | 第98-100页 |
| 5.3.4 光电化学特性 | 第100页 |
| 5.3.5 光生阴极保护效应 | 第100-103页 |
| 5.4 结论 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-108页 |
| 第六章 总结与展望 | 第108-110页 |
| 6.1 总结 | 第108-109页 |
| 6.2 展望 | 第109-110页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表与交流的论文 | 第110-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
