六方氮化硼的能带特性和深紫外探测器研究



六方氮化硼的能带特性和深紫外探测器研究

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六方氮化硼的能带特性和深紫外探测器研究

论文目录
致谢	第1-5页
摘要	第5-7页
ABSTRACT	第7-14页
第一章绪论	第14-28页
1.1 引言	第14页
1.2 六方氮化硼结构、性质及应用	第14-16页
1.3 六方氮化硼制备工艺	第16-18页
1.4 六方氮化硼紫外光电探测器简介	第18-26页
1.4.1 紫外光电探测器概述	第18-20页
1.4.2 MSM紫外光电探测器工作原理	第20-23页
1.4.3 六方氮化硼紫外探测研究现状	第23-26页
1.5 本文的研究动机和研究内容	第26-28页
第二章六方氮化硼的能带特性	第28-40页
2.1 引言	第28页
2.2 六方氮化硼的带隙性质	第28-33页
2.2.1 六方氮化硼体材料的能带性质	第28-31页
2.2.2 单层、两层及三层hBN的能带性质	第31-33页
2.3 基于S掺杂的六方氮化硼能带调控	第33-38页
2.3.1 S掺杂对于hBN能带的调控	第33-36页
2.3.2 S掺杂对于hBN红外和拉曼光谱的影响	第36-38页
2.4 本章小结	第38-40页
第三章六方氮化硼薄膜的制备及表征	第40-52页
3.1 引言	第40页
3.2 磁控溅射法制备六方氮化硼薄膜	第40-41页
3.3 薄膜常用表征手段介绍	第41-43页
3.3.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR)	第41-42页
3.3.2 X射线光电子能谱(XPS)	第42页
3.3.3 紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)	第42页
3.3.4 原子力显微镜(AFM)	第42-43页
3.4 所制备样品表征结果及分析	第43-47页
3.5 工作气体组分对于薄膜质量的影响	第47-51页
3.6 本章小结	第51-52页
第四章基于六方氮化硼的深紫外探测器	第52-68页
4.1 六方氮化硼MSM型紫外探测器的制备	第52-54页
4.2 六方氮化硼的金半接触特性	第54-60页
4.2.1 金属-半导体接触特性	第55-58页
4.2.2 六方氮化硼金半接触I-V特性	第58-60页
4.3 紫外探测器测试系统和性能分析	第60-66页
4.3.1 紫外探测器测试系统	第60-62页
4.3.2 hBN紫外探测器性能测试和分析	第62-66页
4.4 本章小结	第66-68页
第五章总结与展望	第68-70页
5.1 本论文主要内容及结论	第68-69页
5.2 本论文的特色和创新点及展望	第69-70页
参考文献	第70-78页
作者简历及攻读硕士期间取得的科研成果	第78页

本篇论文共78页，点击这进入下载页面。

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