利用磁控溅射原位制备外延Y
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薄膜的研究
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利用磁控溅射原位制备外延Y
1
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7-δ
薄膜的研究
论文目录
摘要
第1-5页
Abstract
第5-8页
引言
第8-9页
1 YBCO和LBCO的概述
第9-16页
· YBCO的结构
第9-11页
· YBCO薄膜应用
第11-14页
· 带材
第12页
· 半导体器件
第12-14页
· 微波器件
第14页
· LBCO的概述
第14-16页
2 YBCO薄膜的制备技术
第16-21页
· 三步法与两步法
第16页
· 磁控溅射法
第16-19页
· 磁控溅射腔体结构设备
第17-19页
· 磁控溅射制备YBCO薄膜工作气压
第19页
· 其他方法
第19-21页
3 YBCO薄膜制备及表征方法
第21-27页
· 靶材制备
第21-22页
· 基片参数
第22页
· YBCO薄膜的制备方法
第22-25页
· 射频磁控溅射的基本原理
第23-24页
· 实验设备
第24-25页
· YBCO薄膜的分析
第25-27页
· X射线衍射仪
第25-26页
· 原子力显微镜
第26-27页
4 溅射功率与气压对YBCO薄膜生长的影响
第27-34页
· YBCO薄膜样品制备
第27页
· 结果与讨论
第27-32页
· 溅射功率与气压对YBCO薄膜结构的影响
第27-31页
· 溅射功率与气压对YBCO薄膜形貌的影响
第31-32页
· 其他因素影响
第32页
· 本章小结
第32-34页
5 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜生长的影响
第34-41页
· YBCO薄膜样品制备
第34页
· 结果与讨论
第34-40页
· 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜结构的影响
第35-38页
· 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜形貌的影响
第38-40页
· 本章小结
第40-41页
结论
第41-42页
参考文献
第42-44页
读硕士学位期间发表学术论文情况
第44-45页
致谢
第45-46页
本篇论文共
46
页,
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