论文目录 | |
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-16页 |
第一章 绪论 | 第16-35页 |
前言 | 第16-17页 |
· 有机硅化合物的特性 | 第17-18页 |
· 紫外光固化技术 | 第18-21页 |
· 紫外光固化材料 | 第21页 |
· 活性稀释剂(reactive diluent) | 第21-26页 |
· 光引发剂(photoinitiator) | 第26-27页 |
· 低聚物(oligomer) | 第27-32页 |
· 聚氨酯丙烯酸酯类低聚物 | 第27-28页 |
· 有机硅低聚物 | 第28-29页 |
· 超支化低聚物 | 第29-32页 |
· 水性UV低聚物 | 第32-33页 |
· 课题的研究目的、意义及其研究内容 | 第33-35页 |
· 课题的目的和意义 | 第33-34页 |
· 课题的研究内容 | 第34-35页 |
第二章 实验部分 | 第35-52页 |
· 实验药品 | 第35-36页 |
· 实验仪器 | 第36-37页 |
· 实验方法 | 第37-50页 |
· 六官能度水溶性超支化光敏有机硅聚氨酯丙烯酸酯低聚物(WPHB6PSUA)的合成 | 第37-42页 |
· 十二官能度水溶性光敏超支化有机硅聚氨酯丙烯酸酯低聚物(WPHB12PSUA)的合成 | 第42-46页 |
· 二十四官能度水溶性光敏超支化有机硅聚氨酯丙烯酸酯低聚物(WPHB24PSUA)的合成 | 第46-50页 |
· 粘度的测定 | 第50页 |
· WPHBPSUA低聚物的光固化体系的配置 | 第50页 |
· 感光性能的测定 | 第50-51页 |
· 物理力学与化学性能测试 | 第51-52页 |
第三章 WPHBPSUA低聚物的合成与表征 | 第52-65页 |
· 双羟甲基丙酸用量对 WPHBPSUA的合成影响 | 第52-53页 |
· WPHBPSUA的红外光谱 | 第53-54页 |
· WPHBPSUA低聚物的核磁表征 | 第54-57页 |
· WPHBPSUA低聚物的核磁共振29Si 谱图表征 | 第57-59页 |
· WPHBPSUA的分子量分析 | 第59页 |
· 低聚物的水溶性 | 第59-61页 |
· 低聚物与活性稀释剂的相容性 | 第61-63页 |
· 低聚物的黏度 | 第63-64页 |
· 小结 | 第64-65页 |
第四章 低聚物的光聚合性能研究 | 第65-76页 |
· 不同活性稀释剂对低聚物的光聚合性能的影响 | 第65-69页 |
· 活性稀释剂的加入量对低聚物的光聚合性能的影响 | 第69-73页 |
· WPHBPSUA结构对光聚合性能的影响 | 第73-75页 |
· 小结 | 第75-76页 |
第五章 WPHBPSUA低聚物光固化体系固化膜的性能研究 | 第76-99页 |
· 固化膜表面 Si 元素含量分析 | 第76-78页 |
· 固化膜的表面形貌 | 第78-80页 |
· 吸水率 | 第80-82页 |
· 硬度 | 第82-84页 |
· 体积收缩率 | 第84-86页 |
· 耐化学试剂性 | 第86-88页 |
· 固化膜的附着力 | 第88-89页 |
· 固化膜的拉伸性能 | 第89-90页 |
· 热重分析 | 第90-93页 |
· 固化膜的玻璃化转变温度 | 第93-97页 |
· 成像性 | 第97页 |
· 小结 | 第97-99页 |
第六章 结论 | 第99-101页 |
参考文献 | 第101-104页 |
致谢 | 第104-105页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第105-106页 |
导师简介 | 第106-107页 |
作者简介 | 第107-108页 |
附件 | 第108-109页 |