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金属酞菁衍生物和Alq3薄膜的制备和性能研究

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金属酞菁衍生物和Alq3薄膜的制备和性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-20页
  · 有机半导体材料概述第10-13页
    · 有机半导体材料分类第10-11页
    · 有机半导体材料的应用领域第11-13页
  · 酞菁类衍生物在有机半导体器件中的应用第13-15页
    · 酞菁类衍生物结构特征第13-14页
    · 酞菁类衍生物有机半导体器件中的应用第14-15页
  · 三(8-羟基喹啉)铝在有机半导体器件中的应用第15页
    · 三(8-羟基喹啉)铝结构特征第15页
    · 三(8-羟基喹啉)铝在半导体器件中的应用第15页
  · 有机小分子的成膜第15-18页
    · 真空沉积法第16页
    · 电化学沉积第16-18页
  · 本论文设计思想第18-20页
第2章 实验试剂和测试仪器第20-24页
  · 实验用试剂和药品第20-21页
  · 实验用设备第21页
  · 实验用测试仪器第21-22页
  · 薄膜的制备第22-24页
    · 真空蒸镀法第22-23页
    · 电泳沉积法第23-24页
第3章 金属酞菁衍生物的合成与结构表征第24-32页
  · β-四戊氧基铜酞菁的合成与结构表征第25-29页
    · 中间体(4-戊氧基邻苯二甲腈)的合成第25-27页
    · β-四戊氧基取代铜酞菁的合成与结构表征第27-29页
  · β-四(羧基苯氧基)铜酞菁的合成与结构表征第29-31页
    · 4-羧基苯氧基邻苯二甲腈合成第29-30页
    · β-四(羧基苯氧基)铜酞菁的合成与结构表征第30-31页
  · 本章小结第31-32页
第4章 金属酞菁衍生物薄膜的制备与性质研究第32-43页
  · 金属酞菁衍生物的质子化反应第32-35页
    · β-四戊氧基铜酞菁的质子化反应第33-34页
    · β-四(羧基苯氧基)铜酞菁的质子化反应第34-35页
  · 金属酞菁衍生物薄膜的制备第35页
    · 电泳沉积法第35页
    · 真空蒸镀法第35页
  · 金属酞菁衍生物薄膜的测试与表征第35-42页
    · SEM 表面形貌观测第35-39页
    · 紫外-可见光吸收光谱第39-41页
    · 酞菁衍生物薄膜的结晶性能第41-42页
  · 本章小结第42-43页
第5章 三(8-羟基喹啉)铝薄膜的改性和性质研究第43-50页
  · 三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的制备与性质研究第43-45页
    · 三(8-羟基喹啉)铝薄膜的制备第43页
    · 三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的表征第43-45页
  · 三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的改性与性质研究第45-48页
    · 单一溶剂三(8-羟基喹啉)铝改性膜的表面形貌表征第45-47页
    · 混合溶剂三(8-羟基喹啉)铝改性膜的表面形貌表征第47-48页
  · 三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的无机掺杂第48-49页
  · 本章小结第49-50页
结论第50-51页
参考文献第51-57页
攻读硕士学位期间主要成果第57-58页
致谢第58-59页
作者简介第59 页

本篇论文共59页,点击这进入下载页面
 
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