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MgB2超导薄膜的制备研究
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MgB2超导薄膜的制备研究
论文目录
 
第一章 前言第11-25 页
　　1．1 超导的发现和超导体基本性质第11-12 页
　　　　1．1．1 超导电性的发现第11 页
　　　　1．1．2 超导体的基不性质第11-12 页
　　1．2 超导理论的发展第12-13 页
　　1．3 超导材料的发展第13-15 页
　　1．4 MgB_2超导电性的发现第15-16 页
　　1．5 MgB_2研究现状第16-23 页
　　　　1．5．1 超导机理第16-17 页
　　　　1．5．2 压力影响第17 页
　　　　1．5．3 元素替代第17-18 页
　　　　1．5．4 线材和带材制备第18-19 页
　　　　1．5．5 MgB_2薄膜制备第19-22 页
　　　　1．5．6 MgB_2厚膜制备第22 页
　　　　1．5．7 MgB_2薄膜器件第22-23 页
　　1．6 研究意义和主要研究内容第23-25 页
　　　　1．6．1 研究 MgB_2的意义第23-24 页
　　　　1．6．2 主要研究内容第24-25 页
第二章 实验设备及原理第25-31 页
　　2．1 微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体磁控溅射第25-30 页
　　　　2．1．1 MW-ECR等离子体源的工作原理及特点第25-26 页
　　　　2．1．2 磁控溅射第26-27 页
　　　　2．1．3 WM-ECR等离子体磁控溅射技术第27-30 页
　　2．2 标准四引线法测量临界转变温度Tc的原理与装置第30 页
　　2．3 本章小结第30-31 页
第三章 MgB_2靶材制备及分析第31-41 页
　　3．1 制备 MgB_2超导体及薄膜的热力学理论参考第31-33 页
　　3．2 MgB_2块状样品的制备及分析第33-37 页
　　　　3．2．1 实验过程第33-34 页
　　　　3．2．2 结果分析第34-37 页
　　3．3 靶材的制备及分析第37-40 页
　　　　3．3．1 实验过程第37-38 页
　　　　3．3．2 结果分析第38-39 页
　　　　3．3．3 靶材制备出现的问题第39-40 页
　　3．4 本章小结第40-41 页
第四章 MgB_2薄膜制备及分析第41-59 页
　　4．1 实验的前期准备第41-43 页
　　　　4．1．1 工作气体的选择第41-42 页
　　　　4．1．2 基片的选择第42-43 页
　　4．2 薄膜制备实验第43-46 页
　　　　4．2．1 薄膜制备流程第43-44 页
　　　　4．2．2 工艺与样品的测试第44-46 页
　　4．3 结果与讨论第46-58 页
　　　　4．3．1 复合单靶溅射第46-51 页
　　　　4．3．2 双靶溅射第51-58 页
　　4．3 本章小结第58-59 页
第五章 总结与展望第59-61 页
参考文献第61-67 页
致谢第67 页

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