论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7
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| ABSTRACT | 第7-12
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| 第一章 绪论 | 第12-25
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| · ZrW_2O_8粉体和薄膜的概述 | 第12-18
页 |
| · ZrW_2O_8的结构 | 第12-13
页 |
| · ZrW_2O_8的负热膨胀机理 | 第13-15
页 |
| · ZrW_2O_8的性质 | 第15-16
页 |
| · ZrW_2O_8薄膜的制备技术 | 第16-17
页 |
| · ZrW_2O_8的应用 | 第17-18
页 |
| · Al_2O_3薄膜的概述 | 第18-23
页 |
| · Al_2O_3薄膜的性质 | 第18
页 |
| · Al_2O_3薄膜的制备技术 | 第18-22
页 |
| · Al_2O_3薄膜的应用 | 第22-23
页 |
| · 本课题选题思想及研究内容 | 第23-24
页 |
| · 本章小节 | 第24-25
页 |
| 第二章 靶材、基片以及薄膜制备的前期准备工作 | 第25-39
页 |
| · 射频磁控溅射 | 第25-30
页 |
| · 射频磁控溅射系统组成 | 第25-26
页 |
| · 磁控溅射的特点 | 第26
页 |
| · 射频辉光放电 | 第26-27
页 |
| · 射频磁控溅射原理 | 第27-29
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| · 溅射过程 | 第29-30
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| · 射频磁控溅射制备薄膜的实验步骤 | 第30
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| · 靶材的制备 | 第30-37
页 |
| · ZrO_2:WO_3=1:2.8复合靶材的制备工艺与研究 | 第31-34
页 |
| · 纯ZrW_2O_8靶材的制备工艺与研究 | 第34-36
页 |
| · ZrO_2和WO_3靶材的制备 | 第36-37
页 |
| · 基片的选择和处理 | 第37-38
页 |
| · 基片的选择 | 第37
页 |
| · 基片的清洗方法 | 第37-38
页 |
| · 本章小结 | 第38-39
页 |
| 第三章 磁控溅射制备Al_2O_3薄膜 | 第39-50
页 |
| · Al_2O_3薄膜的制备 | 第39-40
页 |
| · Al_2O_3薄膜制备工艺的研究 | 第40-44
页 |
| · Al_2O_3薄膜的物相分析 | 第40
页 |
| · 溅射功率对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第40-42
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| · 工作气压对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第42-43
页 |
| · 工作气氛对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第43-44
页 |
| · Al_2O_3薄膜与基片的结合力研究 | 第44-46
页 |
| · Al_2O_3薄膜介电性能的研究 | 第46-48
页 |
| · 溅射功率对Al_2O_3薄膜介电常数的影响 | 第46-47
页 |
| · 溅射功率对Al_2O_3薄膜介电损耗的影响 | 第47-48
页 |
| · Al_2O_3薄膜耐磨性能的研究 | 第48-49
页 |
| · MS-T3000材料表面性能测试仪使用原理 | 第48
页 |
| · Al_2O_3薄膜耐磨性能测试 | 第48-49
页 |
| · 本章小结 | 第49-50
页 |
| 第四章 钨酸锆薄膜的制备 | 第50-81
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| · ZrO_2:WO_3=1:2.8复合靶材制备钨酸锆薄膜的工艺研究 | 第50-64
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| · 溅射功率对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第50-51
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| · 工作气压对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第51
页 |
| · 基片和靶材之间的距离对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第51-52
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| · 工作气氛对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第52-53
页 |
| · 磁控溅射沉积ZrW_2O_8薄膜工艺参数的制定 | 第53
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| · 热处理温度对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第53-59
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| · ZrW_2O_8薄膜的表面形貌分析 | 第59-62
页 |
| · 热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第62-64
页 |
| · 纯ZrW_2O_8靶材制备ZrW_2O_8薄膜的工艺研究 | 第64-72
页 |
| · 薄膜的制备 | 第64-65
页 |
| · 热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的成分影响研究 | 第65-69
页 |
| · 热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的表面形貌影响研究 | 第69-71
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| · 热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第71-72
页 |
| · ZrO_2靶材和WO_3靶材交替磁控溅射制备钨酸锆薄膜的工艺研究 | 第72-78
页 |
| · 薄膜的制备 | 第73-74
页 |
| · 热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的成分影响研究 | 第74-75
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| · 热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的表面形貌影响研究 | 第75-77
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| · 热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第77-78
页 |
| · ZrW_2O_8薄膜的热膨胀性能分析 | 第78-80
页 |
| · 本章小结 | 第80-81
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| 第五章 ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备初探 | 第81-90
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| · 概述 | 第81
页 |
| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备工艺研究 | 第81-83
页 |
| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备 | 第81-82
页 |
| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜热处理工艺 | 第82-83
页 |
| · Al_2(WO_4)_3薄膜的制备和性能研究 | 第83-86
页 |
| · Al_2(WO_4)_3薄膜的制备 | 第83
页 |
| · Al_2(WO_4)_3薄膜的热处理工艺研究和XRD分析 | 第83-84
页 |
| · Al_2(WO_4)_3薄膜的SEM分析 | 第84-85
页 |
| · Al_2(WO_4)_3薄膜与基体之间的结合力 | 第85-86
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| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备 | 第86-89
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| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备工艺 | 第86-87
页 |
| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜表面形貌分析 | 第87-88
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| · ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜成分分析 | 第88-89
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| · 本章小结 | 第89-90
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| 第六章 结论 | 第90-92
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| 第七章 结束语 | 第92-93
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| 参考文献 | 第93-97
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| 致谢 | 第97-98
页 |
| 在读学位期间发表的论文 | 第98
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