纳米SONOS存储器后段低K介质材料及局域存储性能研究



纳米SONOS存储器后段低K介质材料及局域存储性能研究

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纳米SONOS存储器后段低K介质材料及局域存储性能研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章绪论	第10-17页
· 研究背景	第10-14页
· 快闪存储器的发展历程	第10-12页
· 纳米存储器的可靠性研究现状	第12-14页
· 论文主要研究内容	第14-15页
参考文献	第15-17页
第二章 SONOS存储器的工作机理及表征	第17-31页
· 纳米SONOS存储器简介	第17-18页
· 编程与擦除机制	第18-24页
· Fowler-Nordheim(FN)隧穿	第18-19页
· 沟道热电子注入	第19-22页
· 衬底偏置辅助热电子注入	第22-23页
· 带-带隧穿	第23-24页
· 电荷及界面态分布的表征技术	第24-27页
· 电荷泵电流技术(Charge Pumping)	第24-25页
· 亚阈值斜率表征技术	第25-27页
· 反向读阈值电压技术	第27页
· 本章小结	第27-29页
参考文献	第29-31页
第三章利用单电子技术表征SONOS器件中的局域电荷分布	第31-45页
· 单电子效应简介	第32-34页
· 单电子注入方法研究	第34-38页
· 低压CHEI注入方法	第34-35页
· 单电子注入的影响因素分析	第35-37页
· 单电子注入对阈值电压的影响	第37-38页
· 单电子注入位置的表征	第38-41页
· 表征原理介绍	第38-40页
· 实验及结果分析	第40-41页
· 局域电荷分布的表征	第41-43页
· 本章小结	第43-44页
参考文献	第44-45页
第四章金属互连中低K-SiOx介质研究	第45-66页
· 金属互连系统概述	第45-52页
· 双大马士革铜互连工艺	第45-49页
· 低K介质简介	第49-52页
· 低K介质的可靠性研究	第52-59页
· 可靠性测试结构	第52-53页
· 可靠性研究方法	第53-59页
· 低K-SiOx介质制备及可靠性研究	第59-63页
· 低K-SiOx介质的制备	第59-60页
· 低K-SiOx介质的可靠性研究	第60-63页
· 本章小结	第63-64页
参考文献	第64-66页
第五章结论与展望	第66-68页
硕士期间成果	第68-69页
致谢	第69-70页

本篇论文共70页，点击这进入下载页面。

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