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可低压驱动的钛酸钡薄膜场发射研究

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可低压驱动的钛酸钡薄膜场发射研究
论文目录
 
摘 要第1-5 页
Abstract第5-8 页
第一章 前言第8-18 页
  · 场发射与场发射显示技术第9-11 页
  · 场发射显示的核心是阴极技术第11-14 页
    · 高温金属材料第11-12 页
    · 金刚石材料第12-13 页
    · 纳米材料第13-14 页
  · 课题的选取第14-18 页
    · 新型结构的提出第14-15 页
    · 钙钛矿结构铁电材料第15-17 页
    · 本论文结构第17-18 页
第二章 场发射理论第18-23 页
  · 场发射理论第18-21 页
  · F-N 关系及场增强效应第21-23 页
第三章 溅射镀膜与薄膜的表征第23-31 页
  · 辉光放电与溅射第23-25 页
  · 磁控溅射第25-27 页
  · 薄膜生长第27-29 页
    · 薄膜生长理论第27-28 页
    · 实验设备介绍第28-29 页
  · 薄膜的表征手段第29-31 页
第四章 钛酸钡薄膜的制备及场发射特性第31-45 页
  · 钛酸钡薄膜的制备第31-32 页
  · 钛酸钡薄膜的表征第32-34 页
  · 场发射测试第34-37 页
    · 场发射装置测量第34-35 页
    · 钛酸钡薄膜场发射测试第35-36 页
    · 场发射机理第36-37 页
  · 模拟计算第37-43 页
    · 计算模型第37-38 页
    · 发散角计算结果第38-41 页
    · 发射效率的计算结果第41-43 页
  · 结构改进和后期工作第43-45 页
    · 结构改进第43-44 页
    · 等离子处理第44-45 页
第五章 总结第45-46 页
参考文献第46-48 页
致谢第48 页

本篇论文共48页,点击这进入下载页面
 
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