论文目录 | |
摘要 | 第1-5
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Abstract | 第5-11
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第一章 绪论 | 第11-28
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· 氮化硅性质及主要应用 | 第11-16
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· 物理性质及应用 | 第11-14
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· 化学性质及应用 | 第14
页 |
· 微波透波材料及Si_3N_4 在天线罩制备中的应用 | 第14-16
页 |
· CVD 法制备氮化硅薄膜的研究现状 | 第16-19
页 |
· 常压化学气相沉积(APCVD) | 第16
页 |
· 低压化学气相沉积(LPCVD) | 第16-17
页 |
· 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第17-18
页 |
· 光化学气相沉积(Photo-CVD) | 第18-19
页 |
· Si_3N_4 薄膜热处理研究现状 | 第19
页 |
· CVI Si_3N_4 复合材料研究现状 | 第19-23
页 |
· C/Si_3N_4 复合材料研究现状 | 第20-22
页 |
· BN/Si_3N_4 复合材料研究现状 | 第22-23
页 |
· 多孔Si_3N_4、石英材料研究现状 | 第23-26
页 |
· 多孔陶瓷材料分类及制备方法 | 第23
页 |
· 多孔Si_3N_4 在天线罩方面应用的研究进展 | 第23-24
页 |
· 石英陶瓷材料在天线罩方面应用的研究进展 | 第24-26
页 |
· 项目来源、选题依据和研究内容 | 第26-28
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· 项目来源 | 第26
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· 选题依据 | 第26-27
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· 主要研究内容 | 第27-28
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第二章 实验过程与研究方法 | 第28-36
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· Si_3N_4 材料的制备 | 第28-30
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· 原料 | 第28
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· Si_3N_4 材料的制备工艺 | 第28-30
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· Si_3N_4 沉积速率的测定 | 第30
页 |
· Si_3N_4 复合材料的力学性能测试 | 第30-31
页 |
· Si_3N_4 涂层的纳米压入试验 | 第30-31
页 |
· Si_3N_4 涂层的划痕试验 | 第31
页 |
· Si_3N_4 复合材料的介电性能测试 | 第31
页 |
· Si_3N_4 涂层的热处理性能测试 | 第31-32
页 |
· Si_3N_4 涂层的循环热震试验 | 第32
页 |
· RTP 处理对Si_3N_4 涂层的影响 | 第32
页 |
· Si_3N_4 涂层高温处理后的结构演变 | 第32
页 |
· Si_3N_4 涂层的差热分析 | 第32
页 |
· C/Si_3N_4 复合材料烧蚀性能的测试 | 第32-33
页 |
· 成分及组织结构分析 | 第33-34
页 |
· X 射线衍射分析 | 第33
页 |
· 扫描电镜观察 | 第33-34
页 |
· 实验设备 | 第34-36
页 |
· 化学气相沉积设备 | 第34
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· 其他实验设备 | 第34-36
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第三章 结果与讨论 | 第36-61
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· Si_3N_4 涂层的硬度、结合力、抗热震及高温晶态结构、键合变化分析 | 第36-43
页 |
· Si_3N_4 涂层的硬度 | 第36-37
页 |
· Si_3N_4 涂层与基体的结合力 | 第37
页 |
· Si_3N_4 涂层材料的物相及高温晶态结构演变分析 | 第37-39
页 |
· Si_3N_4 涂层材料的抗热震性能分析 | 第39-41
页 |
· 沉积Si_3N_4 涂层的红外光谱分析 | 第41-43
页 |
· 多孔Si_3N_4 表面沉积Si_3N_4 涂层的介电性能分析 | 第43-47
页 |
· BN/Si_3N_4 复合材料的结构及Si_3N_4 生长机制 | 第47-51
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· BN/Si_3N_4 复合材料沉积温度的确定 | 第47
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· 沉积Si_3N_4 颗粒尺寸 | 第47-48
页 |
· BN/Si_3N_4 复合材料的微观结构 | 第48-49
页 |
· Si_3N_4 基体的生长机制 | 第49-51
页 |
· C/Si_3N_4 复合材料结构及烧蚀机制 | 第51-61
页 |
· C/Si_3N_4 复合材料的结构 | 第51-53
页 |
· C/Si_3N_4 复合材料的烧蚀机制 | 第53-61
页 |
第四章 总结与展望 | 第61-63
页 |
· 全文工作总结 | 第61-62
页 |
· 后继工作展望 | 第62-63
页 |
参考文献 | 第63-71
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致谢 | 第71-72
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在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72
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