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CVD/CVISi3N4组织结构与高温性能研究

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CVD/CVISi3N4组织结构与高温性能研究
论文目录
 
摘要第1-5 页
Abstract第5-11 页
第一章 绪论第11-28 页
  · 氮化硅性质及主要应用第11-16 页
    · 物理性质及应用第11-14 页
    · 化学性质及应用第14 页
    · 微波透波材料及Si_3N_4 在天线罩制备中的应用第14-16 页
  · CVD 法制备氮化硅薄膜的研究现状第16-19 页
    · 常压化学气相沉积(APCVD)第16 页
    · 低压化学气相沉积(LPCVD)第16-17 页
    · 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)第17-18 页
    · 光化学气相沉积(Photo-CVD)第18-19 页
  · Si_3N_4 薄膜热处理研究现状第19 页
  · CVI Si_3N_4 复合材料研究现状第19-23 页
    · C/Si_3N_4 复合材料研究现状第20-22 页
    · BN/Si_3N_4 复合材料研究现状第22-23 页
  · 多孔Si_3N_4、石英材料研究现状第23-26 页
    · 多孔陶瓷材料分类及制备方法第23 页
    · 多孔Si_3N_4 在天线罩方面应用的研究进展第23-24 页
    · 石英陶瓷材料在天线罩方面应用的研究进展第24-26 页
  · 项目来源、选题依据和研究内容第26-28 页
    · 项目来源第26 页
    · 选题依据第26-27 页
    · 主要研究内容第27-28 页
第二章 实验过程与研究方法第28-36 页
  · Si_3N_4 材料的制备第28-30 页
    · 原料第28 页
    · Si_3N_4 材料的制备工艺第28-30 页
  · Si_3N_4 沉积速率的测定第30 页
  · Si_3N_4 复合材料的力学性能测试第30-31 页
    · Si_3N_4 涂层的纳米压入试验第30-31 页
    · Si_3N_4 涂层的划痕试验第31 页
  · Si_3N_4 复合材料的介电性能测试第31 页
  · Si_3N_4 涂层的热处理性能测试第31-32 页
    · Si_3N_4 涂层的循环热震试验第32 页
    · RTP 处理对Si_3N_4 涂层的影响第32 页
    · Si_3N_4 涂层高温处理后的结构演变第32 页
    · Si_3N_4 涂层的差热分析第32 页
  · C/Si_3N_4 复合材料烧蚀性能的测试第32-33 页
  · 成分及组织结构分析第33-34 页
    · X 射线衍射分析第33 页
    · 扫描电镜观察第33-34 页
  · 实验设备第34-36 页
    · 化学气相沉积设备第34 页
    · 其他实验设备第34-36 页
第三章 结果与讨论第36-61 页
  · Si_3N_4 涂层的硬度、结合力、抗热震及高温晶态结构、键合变化分析第36-43 页
    · Si_3N_4 涂层的硬度第36-37 页
    · Si_3N_4 涂层与基体的结合力第37 页
    · Si_3N_4 涂层材料的物相及高温晶态结构演变分析第37-39 页
    · Si_3N_4 涂层材料的抗热震性能分析第39-41 页
    · 沉积Si_3N_4 涂层的红外光谱分析第41-43 页
  · 多孔Si_3N_4 表面沉积Si_3N_4 涂层的介电性能分析第43-47 页
  · BN/Si_3N_4 复合材料的结构及Si_3N_4 生长机制第47-51 页
    · BN/Si_3N_4 复合材料沉积温度的确定第47 页
    · 沉积Si_3N_4 颗粒尺寸第47-48 页
    · BN/Si_3N_4 复合材料的微观结构第48-49 页
    · Si_3N_4 基体的生长机制第49-51 页
  · C/Si_3N_4 复合材料结构及烧蚀机制第51-61 页
    · C/Si_3N_4 复合材料的结构第51-53 页
    · C/Si_3N_4 复合材料的烧蚀机制第53-61 页
第四章 总结与展望第61-63 页
  · 全文工作总结第61-62 页
  · 后继工作展望第62-63 页
参考文献第63-71 页
致谢第71-72 页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第72 页

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