微电子工业用超细铜粉的制备及应用研究



微电子工业用超细铜粉的制备及应用研究

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微电子工业用超细铜粉的制备及应用研究

论文目录
摘要	第1-5页
Abstract	第5-11页
第一章绪论	第11-25页
· 项目背景及研究的意义	第11-12页
· 厚膜技术	第12-13页
· 铜粉制备方法	第13-20页
· 置换反应	第14页
· 电解	第14-15页
· 气相还原法	第15页
· 歧化反应	第15-16页
· 液相化学还原法	第16-18页
· 多元醇还原法	第18-20页
· 铜粉的表面改性	第20-22页
· 铜粉在电子工业上的应用	第22-24页
· 本论文研究目标及内容	第24-25页
第二章实验部分	第25-40页
· 铜粉的制备	第25-30页
· 实验试剂	第25页
· 实验设备	第25-26页
· 实验方法	第26-28页
· 铜粉的表征	第28-30页
· 对比与优化试验	第30-33页
· 不同还原方法对比试验	第30-31页
· 不同还原剂对比试验	第31页
· 两步法制备铜粉的优化试验	第31-33页
· 成核时间优化试验	第32页
· 反应温度优化试验	第32-33页
· 两步水合肼添加比例优化试验	第33页
· 不同分散剂对比试验	第33页
· 铜粉中试试验	第33-34页
· 铜粉的抗氧化处理	第34-35页
· 实验材料	第34页
· 实验仪器	第34-35页
· 实验步骤	第35页
· 圆片电容用铜浆的制备	第35-40页
· 实验材料	第35-36页
· 实验设备	第36-37页
· 实验步骤	第37页
· 铜电极性能表征	第37-40页
第三章超细铜粉制备	第40-64页
· Cu_2O 的制备	第40-44页
· 反应物浓度对 Cu_2O 的影响	第41-43页
· 硫酸铜浓度的影响	第41页
· NaOH 浓度的影响	第41-42页
· 葡萄糖浓度的影响	第42-43页
· 反应温度对 Cu_2O 的影响	第43-44页
· 超细铜粉的制备	第44-46页
· 不同还原方法的影响	第44-46页
· 还原剂对铜粉的影响	第46-47页
· 晶体成核和长大过程对铜粉的影响	第47-54页
· 成核时间对铜粉的影响	第47-50页
· 前后两步水合肼添加比例对铜粉的影响	第50-52页
· 反应温度对铜粉的影响	第52-54页
· 分散剂对铜粉的影响	第54-58页
· 两步法制备铜粉中试实验结果分析	第58-59页
· 两步法制备铜粉机理分析	第59-62页
· 反应机理分析	第59-61页
· 铜晶生长机理分析	第61-62页
· 本章小结	第62-64页
第四章圆片电容铜电极的制备	第64-73页
· 引言	第64-65页
· 铜粉在圆片电容上的应用研究	第65-72页
· 铜粉表面处理对铜电极性能的影响	第65-66页
· 铜粉性能参数对圆片电容铜电极性能的影响	第66-68页
· 铜粉形貌对铜电极圆片电容性能的影响	第68-69页
· 不同玻璃料配方对铜电极圆片电容性能的影响	第69-71页
· 烧结温度对铜电极圆片电容的影响	第71-72页
· 本章小结	第72-73页
第五章结论和展望	第73-75页
· 结论	第73-74页
· 问题和展望	第74-75页
致谢	第75-76页
参考文献	第76-82页
攻读硕士学位期间发表的论文	第82 页

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