光脱保护法肽核酸芯片制备中的光敏体系研究



光脱保护法肽核酸芯片制备中的光敏体系研究

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光脱保护法肽核酸芯片制备中的光敏体系研究

论文目录
摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-8页
第一章绪论	第8-11页
· PNA芯片的研究及应用	第8-9页
· PNA芯片制备中的光敏体系	第9-10页
· 文章结构	第10-11页
第二章光敏体系研究的实验方法及光敏剂的合成	第11-20页
· 光敏体系研究的软硬件简介	第11-14页
· 虚拟掩模光刻系统	第11-13页
· 虚拟掩模光刻系统的控制软件	第13-14页
· 玻片修饰	第14-15页
· 实验结果的检测	第15-16页
· 芘及芘的衍生物	第16-19页
· 芘的特性及用途	第17-18页
· 芘的衍生物的合成路线	第18页
· 芘的衍生物的合成步骤	第18-19页
· 本章小结	第19-20页
第三章光脱保护过程中光敏剂性能的比较	第20-29页
· 光敏剂作用机理	第20-25页
· 2-异丙基硫杂蒽酮(ITX)	第20-21页
· 芘及芘的衍生物	第21-22页
· 光脱保护效率	第22-23页
· 芘作为光敏剂的工作机理	第23-25页
· 光敏剂2-异丙基硫杂蒽酮(ITX)与芘的光脱保护对比实验	第25-27页
· 芘及其衍生物N-芘甲基乙酰胺的光脱保护	第27-28页
· 本章小结	第28-29页
第四章光脱保护过程中的光敏溶剂体系的选择	第29-43页
· ITX充当光脱保护反应中的光敏剂	第29-35页
· 反应溶剂DMF和Dioxane与ITX的曝光浓度测试	第29-33页
· ITX的乙腈溶液中的光脱保护	第33-34页
· 紫外光波长对光脱保护的影响	第34-35页
· 三乙胺充当光脱保护反应中的添加剂	第35-36页
· 乙腈中加入微量三乙胺	第35-36页
· 加入微量三乙胺曝光的对比	第36页
· 芘及其衍生物作为光脱保护的光敏剂	第36-41页
· 芘充当光脱保护反应中的光敏剂	第36-39页
· 芘衍生物充当光脱保护反应光敏剂	第39-41页
· 含芘类光敏剂的光敏溶液优化组合	第41-42页
· 本章小结	第42-43页
第五章总结与展望	第43-45页
参考文献	第45-55页
攻读学位期间的主要研究成果	第55-56页
致谢	第56页

本篇论文共56页，点击这进入下载页面。

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