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非均匀磁场分布的磁流变抛光工艺研究

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非均匀磁场分布的磁流变抛光工艺研究
论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-8页
1 绪论第8-14页
  · 课题来源及意义第8-9页
    · 课题来源第8页
    · 课题的研究意义第8-9页
  · 超光滑表面抛光技术第9页
  · 磁流变抛光技术第9-13页
    · 磁流变抛光技术简介第10-11页
    · 磁流变抛光技术演变第11-12页
    · 环带式磁流变抛光技术第12-13页
  · 本章小结第13-14页
    · 本章小结第13页
    · 本论文内容安排第13-14页
2 均匀磁场环带磁流变抛光面型缺陷第14-24页
  · 环带磁流变抛光的均匀磁场第14-18页
    · 环带磁流变抛光均匀磁场结构第14-15页
    · 磁场测量装置第15页
    · 环带磁流变抛光均匀磁场分布测量第15-18页
  · 均匀磁场磁流变抛光面型缺陷第18-22页
    · 表面测量仪器第18-19页
    · 均匀磁场磁流变抛光面型测量第19-22页
  · 本章小结第22-24页
3 非均匀磁场磁流变抛光磁场分布第24-36页
  · 非均匀磁场的提出第24-25页
  · 非均匀磁场产生结构第25-30页
    · 三磁极磁场结构第25-26页
    · 改进型三磁极磁场结构第26-27页
    · 主辅磁极结构第27-30页
  · 非均匀磁场分布第30-35页
    · 三磁极结构磁场分布第30-32页
    · 三磁极改进结构磁场分布第32-34页
    · 主辅磁极结构磁场分布第34-35页
  · 本章小结第35-36页
4 非均匀磁场磁流变抛光实验第36-52页
  · 工件的精磨第36-38页
    · JP350G高速精磨抛光机第36-37页
    · 工件精磨结果第37-38页
  · 非均匀磁场磁流变抛光去除效果第38-42页
    · 三磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除第38-40页
    · 改进型三磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除第40-41页
    · 主辅磁极结构非均匀磁场磁流变抛光去除第41-42页
  · 非均匀磁场磁流变抛光的工艺实验第42-50页
    · 正交实验的因素水平选择第42-44页
    · 正交实验设计第44-46页
    · 正交实验结果第46-50页
  · 本章小结第50-52页
5 结论第52-54页
  · 总结第52-53页
  · 展望第53-54页
参考文献第54-57页
致谢第57-59页

本篇论文共59页,点击这进入下载页面
 
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