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含Bi中孔分子筛的合成表征与催化性能
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含Bi中孔分子筛的合成表征与催化性能
论文目录
 
第一章 文献综述第1-24 页
　　1、 MCM-41 类型中孔分子筛的合成第8-10 页
　　2、 MCM-41 类型中孔分子筛的合成机理第10-14 页
　　　　· 表面活性剂在水溶液中的存在状态第10-11 页
　　　　· 液晶模板机理第11-12 页
　　　　· 协同模板机理第12-13 页
　　　　· 层状向六方相结构转变机理第13-14 页
　　3、 MCM-41 类型中孔分子筛的常用表征方法第14-19 页
　　4、 MCM-41 类型中孔分子筛的应用第19-22 页
　　　　· 氧化还原催化剂第20-21 页
　　　　· 催化剂的载体第21-22 页
　　　　· 吸附剂第22 页
　　　　· 其他领域的应用第22 页
　　5、本文主要的研究工作第22-24 页
第二章 实验方法第24-27 页
　　1、主要试剂、设备及仪器第24-25 页
　　2、催化剂合成方法第25-26 页
　　3、催化剂的表征方法第26 页
　　4、催化剂活性评价方法第26-27 页
第三章 Bi-Si 中孔分子筛的合成、表征与催化性能第27-38 页
　　1、纯硅 MCM-41 中孔分子筛的合成与表征第27-28 页
　　　　· 水热法合成纯硅 MCM-41 中孔分子筛第27 页
　　　　· 室温法合成纯硅 MCM-41 中孔分子筛第27 页
　　　　· XRD 光谱分析第27-28 页
　　2、 Bi-Si 中孔分子筛的合成、表征与催化性能第28-38 页
　　　　· 水热法合成 Bi-Si 中孔分子筛第28 页
　　　　· 催化剂孔结构的表征第28-33 页
　　　　　　· XRD 光谱分析第28-30 页
　　　　　　· N2 吸附等温线第30-32 页
　　　　　　· 热重分析第32 页
　　　　　　· SEM 照片第32-33 页
　　　　· 铋的配位状态的表征第33-35 页
　　　　　　· FT-IR 光谱分析第33-34 页
　　　　　　· UV-Vis 光谱分析第34-35 页
　　　　· 催化氧化性能第35-38 页
　　　　　　· 苯乙烯氧化的反应路径第35-36 页
　　　　　　· 催化剂活性评价第36-38 页
第四章 Bi-Si 中孔分子筛合成条件的优化第38-47 页
　　1、水量的影响第38-40 页
　　2、模板剂用量的影响第40-42 页
　　3、pH 值的影响第42-44 页
　　4、晶化温度和晶化时间的影响第44-47 页
第五章 苯乙烯催化氧化反应机理及反应条件的优化第47-55 页
　　1、苯乙烯氧化的反应机理第47-49 页
　　2、较优反应条件的选择第49-55 页
　　　　· 溶剂种类的影响第49-50 页
　　　　· 反应时间的影响第50-51 页
　　　　· 反应温度的影响第51 页
　　　　· 双氧水浓度的影响第51-52 页
　　　　· 催化剂用量的影响第52-53 页
　　　　· 溶剂用量的影响第53-55 页
第六章 不同硅源合成 Bi-Si 中孔分子筛及其催化性能第55-60 页
　　1、分别以硅酸钠、正硅酸乙酯、硅溶胶为硅源合成 Bi-Si 中孔分子筛第55 页
　　2、催化剂的表征第55-57 页
　　　　· XRD 光谱分析第55-56 页
　　　　· UV-Vis 光谱分析第56-57 页
　　3、催化剂活性评价第57-60 页
第七章 结论第60-61 页
参考文献第61-66 页
在读期间发表论文第66-67 页
致谢第67页

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