论文目录 | |
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| · 引言 | 第11-12页 |
| · 半导体材料简介 | 第12页 |
| · 透明导电薄膜 | 第12-22页 |
| · 透明导电薄膜的分类与发展 | 第13-14页 |
| · 透明导电薄膜的应用 | 第14-16页 |
| · 透明导电薄膜的制备技术 | 第16-22页 |
| · ZnO基薄膜概述 | 第22-27页 |
| · ZnO基薄膜的基本特性 | 第22-24页 |
| · ZnO基薄膜的掺杂 | 第24-25页 |
| · ZnO基透明导电薄膜的研究现状 | 第25-27页 |
| · 论文研究的意义及主要内容 | 第27-28页 |
| 第2章 实验及表征 | 第28-36页 |
| · 实验材料与设备 | 第28-30页 |
| · 实验材料 | 第28-30页 |
| · 实验设备 | 第30页 |
| · 实验方案 | 第30-32页 |
| · 溶胶的配置 | 第30-31页 |
| · 基片前处理 | 第31页 |
| · 薄膜的涂覆及热处理 | 第31-32页 |
| · 表征手段 | 第32-36页 |
| · X射线衍射仪 | 第32-33页 |
| · 扫描电子显微镜 | 第33页 |
| · 原子力显微镜 | 第33页 |
| · 双电测四探针电阻率测试仪 | 第33-34页 |
| · 可见分光光度计 | 第34-36页 |
| 第3章 Al、Ga共掺杂ZnO透明导电薄膜(GAZO)的正交优化 | 第36-46页 |
| · 引言 | 第36页 |
| · 正交试验设计 | 第36-40页 |
| · 因素水平的选取 | 第36-37页 |
| · 正交试验表 | 第37-39页 |
| · 正交试验结果分析 | 第39-40页 |
| · Al、Ga掺杂配比对GAZO薄膜结构与性能的影响 | 第40-44页 |
| · Al、Ga掺杂配比对GAZO薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| · Al、Ga掺杂配比对GAZO薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| · Al、Ga掺杂配比对GAZO薄膜透光率的影响 | 第42-43页 |
| · Al、Ga掺杂配比对GAZO薄膜电阻率的影响 | 第43-44页 |
| · 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 GAZO/AZO/GZO/ZnO薄膜结构与性能的对比研究 | 第46-54页 |
| · 引言 | 第46页 |
| · 薄膜结构与形貌的对比 | 第46-53页 |
| · GAZO/AZO/GZO/ZnO薄膜结构的对比 | 第46-47页 |
| · GAZO/AZO/GZO/ZnO薄膜形貌及成分的对比 | 第47-51页 |
| · GAZO/AZO/GZO/ZnO薄膜光电性能的对比 | 第51-53页 |
| · 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 Al、N、F三掺杂透明导电薄膜(ZnO：Al/N/F)的研究 | 第54-63页 |
| · 引言 | 第54页 |
| · 溶胶浓度对ZnO：Al/N/F薄膜结构与性能的影响 | 第54-60页 |
| · 溶胶浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| · 溶胶浓度对薄膜透光率的影响 | 第56-57页 |
| · 溶胶浓度对薄膜晶体结构的影响 | 第57-59页 |
| · 溶胶浓度对薄膜电阻率的影响 | 第59-60页 |
| · 掺杂浓度对ZnO：Al/N/F薄膜结构与性能的影响 | 第60-62页 |
| · 掺杂浓度对薄膜透光率的影响 | 第60-61页 |
| · 掺杂浓度对薄膜电阻率的影响 | 第61-62页 |
| · 本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 结论 | 第63-65页 |
| · 主要研究成果 | 第63-64页 |
| · 需进一步解决的问题 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第72
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