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射频磁控溅射法制备TiO2，ZnO薄膜及性质研究
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射频磁控溅射法制备TiO2，ZnO薄膜及性质研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
Abstract第4-5 页
目录第5-7 页
第一章 绪论第7-16 页
　　前言第7-8 页
　　· 二氧化钛薄膜的结构、性质及研究进展第8-12 页
　　· 氧化锌薄膜的结构、性质及研究进展第12-13 页
　　· 薄膜的制备方法第13-15 页
　　· 本文研究的主要目的与内容第15-16 页
第二章 射频磁控溅射制备薄膜原理及工艺第16-22 页
　　· 磁控溅射原理第16-17 页
　　· 本实验所用设备以及简介第17-20 页
　　· 制备工艺及实施方案第20-22 页
第三章 主要分析方法概述第22-24 页
　　· 拉曼光谱(Raman)第22 页
　　· X射线光电子能谱(XPS)第22 页
　　· 紫外-可见光谱(UV-Vis)第22-23 页
　　· 扫描电镜(SEM)第23 页
　　· 光致发光谱(PL)第23 页
　　· X射线衍射(XRD)第23-24 页
第四章 射频磁控溅射工艺参数对氧化物薄膜结构和性质的影响第24-42 页
　　· 氧气流量对薄膜结构的影响第24-31 页
　　　　· 二氧化钛薄膜第24-28 页
　　　　· 氧化锌薄膜第28-31 页
　　· 薄膜后期退火温度对薄膜结构的影响第31-41 页
　　　　· 钛薄膜第31-34 页
　　　　· 氧化钛薄膜第34-38 页
　　　　· 锌薄膜第38-41 页
　　· 结论第41-42 页
第五章 氧化钛、氧化锌薄膜光学性质第42-49 页
　　· 二氧化钛薄膜光学性质第42-43 页
　　· 氧化锌薄膜光学性质第43-48 页
　　　　· 紫外可见吸收光谱第43-45 页
　　　　· 光致发光谱第45-48 页
　　· 结论第48-49 页
第六章 氧化钛亲水性、光催化性质第49-52 页
　　· 薄膜亲水性第49-50 页
　　· 薄膜光催化性质第50-52 页
全文结论第52-53 页
致谢第53-54 页
参考文献第54-57 页

本篇论文共57页，点击这进入下载页面。
 
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