论文目录 | |
| 摘要 | 第1-4
页 |
| Abstract | 第4-6
页 |
| 目录 | 第6-8
页 |
| 1 绪论 | 第8-18
页 |
| · 研究背景 | 第8
页 |
| · PZT铁电材料简介 | 第8-9
页 |
| · 电极材料 | 第9-11
页 |
| · Si基取向性薄膜生长工艺研究现状 | 第11-16
页 |
| · 取向薄膜制备技术 | 第11-12
页 |
| · 薄膜取向生长影响因素 | 第12-14
页 |
| · PZT/LaNiO_3薄膜取向生长研究现状 | 第14-16
页 |
| · 本课题的内容和意义 | 第16-18
页 |
| 2 实验方法及实验设备 | 第18-30
页 |
| · 研究思路及方案 | 第18-19
页 |
| · 实验内容 | 第19-23
页 |
| · LaNiO_3溶胶制备工艺研究 | 第19
页 |
| · LaAlO_3基(100)取向LaNiO_3薄膜制备及性能测试 | 第19-20
页 |
| · Si基(100)取向LaNiO_3薄膜的制备及影响因素研究 | 第20-21
页 |
| · PZT溶胶的制备 | 第21-22
页 |
| · (001)PZT/(100)LaNiO_3/Si多层结构的制备及性能测试 | 第22-23
页 |
| · 实验仪器设备 | 第23-28
页 |
| · 薄膜制备设备 | 第23
页 |
| · 薄膜性能的表征仪器 | 第23-28
页 |
| · 实验试剂 | 第28-30
页 |
| 3 (100)取向LaNiO_3薄膜制备及取向生长影响因素探讨 | 第30-44
页 |
| · 引言 | 第30
页 |
| · LaNiO_3溶胶制备工艺 | 第30-32
页 |
| · LaAlO_3单晶基LaNiO_3薄膜制备及取向生长研究 | 第32-35
页 |
| · (100)LaNiO_3/LaAlO_3结构分析 | 第32-34
页 |
| · 厚度对于薄膜电阻率的影响 | 第34-35
页 |
| · Si基(100)取向LaNiO_3制备及性能研究 | 第35-42
页 |
| · 金属离子浓度对LaNiO_3薄膜取向的影响 | 第35-37
页 |
| · 溶剂对LaNiO_3薄膜取向的影响 | 第37-38
页 |
| · 热处理工艺对LaNiO_3薄膜取向的影响 | 第38-40
页 |
| · 不同取向Si单晶基板对LaNiO_3取向的影响 | 第40-41
页 |
| · Si基LaNiO_3薄膜表面形貌分析 | 第41-42
页 |
| · 小结 | 第42-44
页 |
| 4 (001)PZT/(100)LaNiO_3/Si薄膜制备及性能研究 | 第44-56
页 |
| · 概述 | 第44
页 |
| · Si基(001)PZT/(100)LaNiO_3薄膜制备及性能研究 | 第44-54
页 |
| · 取向性PZT/LaNiO_3/Si薄膜制备 | 第44
页 |
| · Si基取向性PZT/LaNiO_3/Si薄膜XRD分析 | 第44-47
页 |
| · LaAlO_3单晶衬底PZT/LaNiO_3薄膜取向结构分析 | 第47
页 |
| · 取向PZT/LaNiO_3/Si薄膜表面形貌分析 | 第47-49
页 |
| · Si基取向PZT薄膜铁电性能测试 | 第49-51
页 |
| · Si基(001)取向PZT电性能研究 | 第51-54
页 |
| · 小结 | 第54-56
页 |
| 5 结论 | 第56-58
页 |
| 致谢 | 第58-60
页 |
| 参考文献 | 第60-66
页 |
| 作者在硕士期间撰写和发表的论文 | 第66
页 |
