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磁控溅射法制备TiO2薄膜及其性质研究
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磁控溅射法制备TiO2薄膜及其性质研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
Abstract第4-7 页
1 绪论第7-17 页
　　前言第7-8 页
　　· 二氧化钛薄膜的结构、性质及研究进展第8-13 页
　　· 薄膜的制备方法第13-15 页
　　　　· 溶胶-凝胶法第13 页
　　　　· 磁控溅射法第13-14 页
　　　　· 化学气相沉积法第14 页
　　　　· 丝网印刷法第14-15 页
　　　　· 水热结晶法第15 页
　　· 本文研究的主要内容第15-17 页
2 射频磁控溅射制备薄膜原理及工艺第17-26 页
　　· 磁控溅射原理第17-18 页
　　· 本实验所用设备简介第18-21 页
　　· 制备工艺及实施方案第21-22 页
　　　　· 磁控溅射真空环境的实现第21 页
　　　　· 工艺流程和实施方案第21-22 页
　　· 薄膜的表征和分析第22-24 页
　　　　· 拉曼光谱(Raman)第23 页
　　　　· 紫外-可见光谱(UV-Vis)第23 页
　　　　· X-射线衍射仪(XRD)第23-24 页
　　　　· 原子力显微镜(AFM)第24 页
　　　　· 扫描电子显微镜(SEM)第24 页
　　　　· 光化学反应仪第24 页
　　· 试剂与仪器第24-26 页
3 射频磁控溅射工艺参数对TiO_2薄膜结构和性质的影响第26-48 页
　　· 不同靶材对薄膜结构的影响第26-28 页
　　　　· 薄膜的制备第26 页
　　　　· 薄膜的Raman光谱分析第26-27 页
　　　　· 薄膜的SEM分析第27-28 页
　　· 不同基体对薄膜结构的影响第28-32 页
　　　　· 薄膜的制备第28 页
　　　　· 薄膜的Raman光谱分析第28-30 页
　　　　· 薄膜的XRD分析第30-32 页
　　· 后期退火温度对薄膜结构的影响第32-39 页
　　　　· 薄膜的制备第32 页
　　　　· 薄膜的Raman光谱分析第32-34 页
　　　　· 薄膜的XRD分析第34-37 页
　　　　· 薄膜的AFM分析第37-39 页
　　· 溅射压强对薄膜结构的影响第39-44 页
　　　　· 玻璃基体第39-41 页
　　　　· 石英基体第41-44 页
　　· 不同溅射功率对薄膜结构的影响第44-46 页
　　　　· 薄膜的制备第44 页
　　　　· 薄膜的Raman光谱分析第44-45 页
　　　　· 薄膜的XRD分析第45-46 页
　　· 本章小结第46-48 页
4 二氧化钛薄膜光学性质第48-51 页
　　· 不同溅射压强的TiO_2薄膜光学性质第48-49 页
　　· 不同退火温度下TiO_2薄膜光学性质第49-50 页
　　· 本章小结第50-51 页
5 二氧化钛薄膜光催化性质第51-58 页
　　· 不同光源对甲基橙溶液脱色效果的影响第51-52 页
　　· TiO_2薄膜添加量对甲基橙溶液脱色效果的影响第52-53 页
　　· 甲基橙溶液初始浓度对脱色效果的影响第53 页
　　· 甲基橙溶液不同初始pH值对脱色效果的影响第53-54 页
　　· 不同基底对脱色效果的影响第54-55 页
　　· 不同退火温度对脱色效果的影响第55-56 页
　　· 本章小结第56-58 页
全文结论第58-59 页
致谢第59-60 页
参考文献第60-64 页

本篇论文共64页，点击这进入下载页面。
 
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