论文目录 | |
摘要 | 第1-5页 |
abstract | 第5-10页 |
1 绪论 | 第10-18页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 紫外光电探测器 | 第11-13页 |
1.2.1 光生伏特型紫外光电探测器 | 第11-12页 |
1.2.2 光电导型探测器 | 第12页 |
1.2.3 接触类型 | 第12-13页 |
1.3 紫外光电探测器研究现状 | 第13-16页 |
1.3.1 金刚石 | 第13-14页 |
1.3.2 碳化硅 | 第14页 |
1.3.3 氮化镓 | 第14页 |
1.3.4 三氧化二镓 | 第14-15页 |
1.3.5 氧化锌 | 第15页 |
1.3.6 氧化镍 | 第15-16页 |
1.4 论文选题依据和主要研究内容 | 第16-18页 |
2 材料与器件的制备工艺和表征方法 | 第18-31页 |
2.1 镍纳米线的制备 | 第18页 |
2.2 氧化锌靶材的烧制 | 第18-19页 |
2.3 离子溅射技术 | 第19页 |
2.4 激光分子束外延技术 | 第19-24页 |
2.4.1 脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
2.4.2 反射式高能电子衍射 | 第21-23页 |
2.4.3 衬底刻蚀技术 | 第23-24页 |
2.5 材料和器件表征方法 | 第24-28页 |
2.5.1 扫描电子显微镜原理(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第24-25页 |
2.5.2 X射线衍射原理(X-ray Diffraction,XRD) | 第25页 |
2.5.3 透射电子显微镜原理(Transmission Electron Microscope,TEM) | 第25页 |
2.5.4 原子力显微镜原理(Atomic Force Microscope,AFM) | 第25-27页 |
2.5.5 热重分析原理(Thermogravimetric Analysis,TG) | 第27页 |
2.5.6 光响应系统原理(spectral response) | 第27-28页 |
2.6 紫外光刻技术 | 第28-31页 |
3 光电探测器的制作步骤和表征数据 | 第31-42页 |
3.1 实验流程介绍 | 第31-32页 |
3.2 实验选材研究 | 第32-36页 |
3.3 纳米线的基本表征 | 第36-38页 |
3.4 氧化锌的基本表征 | 第38-39页 |
3.5 氧化锌和铂金属厚度的基本表征 | 第39-40页 |
3.6 紫外光电探测器模型和形貌 | 第40-42页 |
4 光电探测器的性能测试 | 第42-51页 |
4.1 紫外光电探测器电流电压曲线测试 | 第42-44页 |
4.2 紫外光电探测器0偏压光响应曲线和光谱光响应曲线 | 第44-46页 |
4.3 异质结能带模型 | 第46-47页 |
4.4 紫外光电探测器稳定性曲线 | 第47-48页 |
4.5 紫外光电探测器恢复时间曲线 | 第48-49页 |
4.6 紫外光电探测器在不同偏压和不同光强下的I-t曲线 | 第49-51页 |
5 实验结论与展望 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-56页 |
个人简历及研究成果 | 第56-57页 |
个人简历 | 第56页 |
研究成果 | 第56-57页 |
致谢 | 第57页 |