电子束蒸发制备AZO薄膜的光电性能研究



电子束蒸发制备AZO薄膜的光电性能研究

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电子束蒸发制备AZO薄膜的光电性能研究

论文目录
第一章引言	第1-20 页
· 功能薄膜的发展现状	第8-12 页
· 透明导电薄膜的制备方法	第12-17 页
· 透明导电薄膜的应用前景与发展展望	第17-18 页
· 本研究课题的提出及研究目的	第18-19 页
· 论文工作构思及主要工作任务	第19-20 页
第二章半导体薄膜基础	第20-39 页
· 典型氧化物的结构	第20-24 页
· 沉积工艺因素对薄膜结构的影响	第24-28 页
· 薄膜的晶体结构	第25-26 页
· 薄膜的纤维结构	第26-27 页
· 薄膜的晶粒组织和表面形态	第27-28 页
· 半导体物理基础	第28-33 页
· 半导体能带和载流子	第29-31 页
· 载流子的迁移	第31-33 页
· 薄膜特有的电学性质	第33-34 页
· AZO薄膜导电机理	第34-37 页
· 化学剂量比的偏离	第34-36 页
· 薄膜的杂质缺陷	第36-37 页
· AZO薄膜最佳掺杂量计算	第37-39 页
第三章薄膜结构和性能的测试	第39-49 页
· X射线衍射分析原理和仪器	第39-41 页
· 扫描电镜工作原理和仪器构造	第41-43 页
· 分光光度计测薄膜的透射率	第43-45 页
· 薄膜电学性能的测量	第45-49 页
· 四探针测量薄膜的电阻率	第45-46 页
· 霍尔效应的测量	第46-49 页
第四章薄膜的制备	第49-62 页
· 真空电子束蒸发法制备薄膜	第49-51 页
· 薄膜的厚度和沉积速率的测量	第51-54 页
· 多光束干涉法	第52-53 页
· 石英晶体振荡法	第53-54 页
· AZO薄膜的制备	第54-59 页
· 实验的安排	第54-56 页
· 基片的清洗	第56-57 页
· 薄膜样品的制备	第57-59 页
· 实验结果	第59-62 页
第五章 AZO薄膜的XRD研究	第62-80 页
· 膜厚对AZO薄膜的晶体结构的影响	第62-65 页
· 基片温度对AZO薄膜的晶体结构的影响	第65-67 页
· 沉积速率对AZO薄膜的晶体结构的影响	第67-69 页
· 掺杂量对AZO薄膜的晶体结构的影响	第69-73 页
· 热处理环境对AZO薄膜的晶体结构的影响	第73-78 页
· 工艺因素优选	第78-80 页
第六章总结	第80-81 页
致谢	第81-82 页
硕士期间发表的论文	第82-83 页
参考文献	第83-87 页
附表1	第87-88 页

本篇论文共88页，点击这进入下载页面。

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