线性啁啾相位掩膜板的设计以及啁啾光栅制作效率的提高



线性啁啾相位掩膜板的设计以及啁啾光栅制作效率的提高

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线性啁啾相位掩膜板的设计以及啁啾光栅制作效率的提高

论文目录
摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
第1章绪论	第9-17页
1.1 研究背景及意义	第9页
1.2 国内外研究现状及存在问题	第9-13页
1.2.1 国内外的研究现状	第9-12页
1.2.2 存在的问题	第12-13页
1.3 研究的目的与思路	第13-15页
1.4 论文结构安排	第15-17页
第2章线性啁啾相位掩膜板的设计	第17-40页
2.1 线性啁啾相位掩模板设计的理论基础和设计指标	第17-22页
2.1.1 啁啾相位掩膜啁啾系数和长度与反射带宽之间的关系..	第17页
2.1.2 啁啾相位掩膜周期与反射带宽之间的关系	第17-18页
2.1.3 严格耦合波理论	第18-21页
2.1.4 啁啾相位掩膜的设计指标	第21-22页
2.2 线性啁啾相位掩膜板的设计思路	第22-35页
2.2.1 啁啾相位掩膜啁啾系数和长度的确定	第24-26页
2.2.2 啁啾相位掩膜周期分布的确定	第26-27页
2.2.3 相位掩膜板的衍射效率分析	第27-35页
2.2.3.1 衍射效率的影响因素	第27-35页
2.3 啁啾相位掩模板的制作方案	第35-39页
2.3.1 最终设计图	第35-36页
2.3.2 啁啾相位掩膜板的加工方案选择	第36-39页
2.4 本章小结	第39-40页
第3章二次曝光制作宽带边沿谱啁啾光纤光栅	第40-56页
3.1 啁啾光栅制作的理论基础	第40页
3.2 边沿谱啁啾光栅所存在的问题以及解决问题的思路	第40-43页
3.2.1 CEO算法设计边沿谱啁啾光栅所存在的问题	第41页
3.2.2 提高边沿谱啁啾光纤光栅制作效率的思路	第41-43页
3.3 二次曝光法	第43-54页
3.3.1 准直和整形激光束	第43-44页
3.3.2 均匀化激光束	第44-49页
3.3.3 二次曝光法制作边沿谱啁啾光纤光栅	第49-54页
3.4 本章小结	第54-56页
第4章总结与展望	第56-59页
4.1 总结	第56-57页
4.2 展望	第57-59页
参考文献	第59-63页
致谢	第63页

本篇论文共63页，点击这进入下载页面。

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