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WO3纳米线-NO2吸附体系电子性能及其Ti掺杂的理论研究
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WO3纳米线-NO2吸附体系电子性能及其Ti掺杂的理论研究
论文目录
 
中文摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-16页
　　1.1 气敏传感器简介第8-12页
　　　　1.1.1 气敏传感器的定义与分类第8-9页
　　　　1.1.2 气敏传感器的应用第9-10页
　　　　1.1.3 气敏传感器的研究进展第10-12页
　　1.2 氧化钨气敏传感器的研究进展第12-13页
　　1.3 本文选题背景与主要内容第13-16页
第二章 计算软件及理论基础介绍第16-22页
　　2.1 前言第16页
　　2.2 计算软件第16-18页
　　　　2.2.1 Materials Studio软件第16-17页
　　　　2.2.2 CASTEP模块第17-18页
　　2.3 量子力学理论第18页
　　2.4 密度泛函理论第18-22页
　　　　2.4.1 Thomas-Fenni-Dirac近似第19页
　　　　2.4.2 Hohenberg-Kohn定理第19-20页
　　　　2.4.3 Kohn-Sham方程第20-21页
　　　　2.4.4 能带计算分析方法第21-22页
第三章 WO_3体材料及纳米线电子性能研究第22-30页
　　3.1 体WO_3晶体结构及电子性能计算第22-26页
　　　　3.1.1 体WO_3的晶体结构第22页
　　　　3.1.2 体WO_3晶体结构优化参数设置第22-24页
　　　　3.1.3 体WO_3的能带结构和态密度第24-26页
　　3.2 WO_3纳米线模型的建立及电子性能计算第26-29页
　　　　3.2.1 WO_3纳米线模型第26-27页
　　　　3.2.2 WO_3纳米线优化参数设置第27-28页
　　　　3.2.3 WO_3纳米线能带结构和态密度第28-29页
　　3.3 本章小结第29-30页
第四章 不同定向WO_3纳米线-NO_2吸附体系电子转移性能研究第30-42页
　　4.1 引言第30-31页
　　4.2 WO_3纳米线对NO_2气体的吸附性能第31-40页
　　　　4.2.1 NO_2气体吸附模型的建立第31-32页
　　　　4.2.2 吸附能分析第32-34页
　　　　4.2.3 能带图和态密度图第34-37页
　　　　4.2.4 电荷布局分布第37-38页
　　　　4.2.5 差分电荷密度分布图分析第38-40页
　　4.3 选择性分析第40-41页
　　4.4 本章小结第41-42页
第五章 掺杂WO_3纳米线的电子结构和气体敏感性能研究第42-55页
　　5.1 引言第42-43页
　　5.2 Ti掺杂WO_3纳米线的电子结构第43-47页
　　　　5.2.1 Ti掺杂WO_3纳米线模型建立第43页
　　　　5.2.2 几何结构与稳定性第43-44页
　　　　5.2.3 电子结构第44-47页
　　5.3 Ti掺杂WO_3纳米线-NO_2气体吸附体系的电子性能第47-54页
　　　　5.3.1 吸附能与几何结构第47-48页
　　　　5.3.2 能带图与电荷密度图第48-51页
　　　　5.3.3 电荷差分密度分布第51-52页
　　　　5.3.4 Mulliken电荷布居分析第52-54页
　　5.4 本章小结第54-55页
第六章 结论与展望第55-57页
　　6.1 结论第55-56页
　　6.2 展望第56-57页
参考文献第57-61页
发表论文和参加科研情况说明第61-62页
致谢第62-63页

本篇论文共63页，点击这进入下载页面。
 
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