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金属表面、Cu2O/金属界面、硅表面太赫兹辐射的实验研究

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金属表面、Cu2O/金属界面、硅表面太赫兹辐射的实验研究
论文目录
 
摘要第1-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第10-14页
  · 金属表面辐射太赫兹的研究现状第10-11页
  · Cu_2O/金属界面辐射太赫兹的研究现状第11-12页
  · 硅表面辐射太赫兹的研究现状第12页
  · 本文内容第12-14页
第二章 表面辐射太赫兹的机理和自由空间电光采样技术第14-22页
  · 表面辐射太赫兹的基本机理第14-19页
    · 表面光整流辐射太赫兹第14-16页
    · 表面光电流辐射太赫兹第16-19页
  · 太赫兹的自由空间电光采样技术第19-21页
  · 本章小结第21-22页
第三章 金属表面辐射太赫兹的研究第22-31页
  · 金属表面辐射太赫兹的机理第22-27页
    · 金属表面等离激元的激发第22-24页
    · 表面等离激元激发下的瞬态光整流第24-25页
    · 表面等离激元激发下的瞬态光电流第25-27页
  · 实验样品与实验装置第27-28页
    · 实验样品第27页
    · 实验装置第27-28页
  · 实验光路第28-29页
  · 实验结果与分析第29-30页
    · 金属铜表面辐射太赫兹的结果与分析第29页
    · 金属铜表面氧化后辐射太赫兹第29-30页
  · 本章小结第30-31页
第四章 Cu_2O/金属界面辐射太赫兹的实验研究第31-39页
  · 不同条件下铜表面的氧化第31-32页
    · 氧化亚铜第31页
    · 氧化铜第31-32页
  · Cu_2O/金属界面太赫兹辐射的机理第32-33页
    · 内建电场中的瞬态光电流第32-33页
    · 场致光整流第33页
  · 实验样品制作第33-35页
  · 实验光路第35-36页
  · 实验结果与分析第36-38页
    · 太赫兹辐射强度与铜片表面加热时间的关系第36页
    · Cu_2O/Au界面的太赫兹辐射第36-37页
    · 打磨铜片表面太赫兹辐射强度对方位角的依赖关系第37-38页
  · 本章小结第38-39页
第五章 硅表面辐射太赫兹的实验研究第39-50页
  · 硅表面的二阶非线性极化性质与测量第39-41页
    · 硅表面的二阶非线性极化性质第39-40页
    · 硅的二阶非线性测量第40-41页
  · 实验光路与实验样品准备第41-42页
  · 实验结果第42-46页
    · 单晶硅表面辐射的太赫兹电场强度对方位角的依赖关系第42-44页
    · 定向打磨硅表面辐射太赫兹电场强度对方位角的依赖关系第44-46页
  · 实验结果分析第46-48页
  · 本章小结第48-50页
结束语第50-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-59页
作者在学期间取得的学术成果第59页

本篇论文共59页,点击这进入下载页面
 
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