一种场致发射阴极工艺的研究
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一种场致发射阴极工艺的研究
论文目录
第1章 绪论
第1-22 页
· 场致发射的概念
第7-8 页
· 场致发射阴极的基本构成
第8-12 页
· 场致发射阴极材料
第8-9 页
· 场致发射阴极结构
第9-12 页
· 场致发射阴极的发展概况
第12-16 页
· 场致发射的发展特点
第12-14 页
· 场致发射的国内研究状况
第14-15 页
· 场致发射的国外研究状况
第15-16 页
· 场致发射的优越性和应用前景
第16-20 页
· 场致发射的优越性
第16-18 页
· 场致发射的应用前景
第18-20 页
· 本文研究的目的和主要工作
第20-22 页
第2章 半导体场致发射理论的相关理论
第22-36 页
· 引言
第22-23 页
· 半导体的功函数
第23-27 页
· 半导体的功函的概念
第23-24 页
· 半导体的功函数与温度的关系
第24-25 页
· 外电场对逸出功的影响——肖特基效应
第25-27 页
· 外电场的渗透和半导体表面态对半导体功函数的影响
第27 页
· 半导体锥尖场致发射电流方程的建立过程
第27-34 页
· 半导体中的电子分布函数
第27-28 页
· 半导体的能量分布函数(供给函数)N(W)
第28-30 页
· 半导体的透射系数 D(W)
第30-32 页
· 半导体的场致发射电流方程
第32-34 页
· 场致发射阴极锥尖的电场强度
第34-36 页
第3章 激光制备场致微锥工艺部分
第36-41 页
· 激光打孔技术
第36-37 页
· 激光打孔的特点
第36 页
· 激光微加工装置
第36-37 页
· 场致阴极制备工艺
第37-38 页
· 微锥阵列的显微结构
第38-41 页
第4章 聚合物微锥阵列的制备
第41-50 页
· 聚合物微锥尺寸的确定
第41-42 页
· 硅晶片的表面处理
第42-43 页
· 初清洗
第42 页
· 机械加工
第42 页
· 再次清洗
第42 页
· 化学腐蚀
第42-43 页
· 镀膜工艺
第43-45 页
· 本征SiO_2薄膜的制备
第43-44 页
· SiCl_4/O_2流量比对薄膜沉积的影响
第44-45 页
· 沉积温度对沉积薄膜的影响
第45 页
· 试验工艺流程的确定
第45-50 页
· 实验工艺流程
第45-47 页
· 聚合物微锥阵列的制备
第47-50 页
第5章 结论
第50-51 页
· 总结
第50-51 页
参考文献
第51-57 页
作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文
第57-58 页
致谢
第58 页
本篇论文共
58
页,
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