多晶硅太阳电池关键技术研究
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多晶硅太阳电池关键技术研究
论文目录
独创性声明
第1 页
学位论文版权使用授权书
第2-3 页
摘要
第3-4 页
Abstract
第4-7 页
第一章 前言
第7-17 页
· 人类利用能源的发展趋势
第7-8 页
· 太阳能的利用
第8-9 页
· 晶体硅太阳电池的发展概况
第9-11 页
· 实验室对提高多晶硅太阳电池效率的研究概况
第11-14 页
· 多晶硅太阳电池的工业生产流程
第14-16 页
· 本论文的研究目的和研究内容
第16 页
· 本论文的创新点
第16-17 页
第二章 晶体硅太阳电池的基础理论
第17-39 页
· 晶体硅太阳电池的工作原理
第17-23 页
· 晶体硅太阳电池的工作原理概述
第17-18 页
· 平衡 P-N结
第18-19 页
· 非平衡 P-N结
第19-21 页
· 光照下的 P-N结
第21-23 页
· 太阳电池性能参数
第23-25 页
· 短路电流
第23 页
· 开路电压
第23-24 页
· 填充因子
第24 页
· 转换效率
第24-25 页
· 太阳电池等效电路及电流电压关系
第25-27 页
· 硅表面减反射及制绒原理
第27-28 页
· 扩散原理
第28-31 页
· 掺杂层的表征
第31-33 页
· 方块电阻的测量
第33-34 页
· 表面钝化原理
第34-37 页
· 去周边
第37-39 页
第三章 实验设计
第39-48 页
· 扩散过程的有关问题
第39-43 页
· 硅片的摆放
第39 页
· 扩散源和石英管的使用
第39-41 页
· 气体流量影响扩散效果
第41 页
· 石英管和石英舟的饱和
第41-42 页
· 背靠背扩散的特点
第42-43 页
· 多晶硅清洗和表面织构
第43-44 页
· 方块电阻的测量
第44 页
· 多晶硅和单晶硅的扩散比较
第44-45 页
· 氧化实验
第45 页
· 对扩散和氧化均匀性的探讨
第45-46 页
· 等离子体增强化学气相沉积 SiNx的研究
第46 页
· 制太阳电池过程中扩散条件的探索
第46-47 页
· 实验设计
第46-47 页
· 对扩散条件的进一步探索
第47 页
· PECVD制 SiNx减反射膜的扩散探索
第47 页
· 等离子体刻蚀去周边的研究
第47-48 页
第四章 实验结果及分析
第48-66 页
· 酸绒面织构和碱绒面织构的实验结果及分析
第48-52 页
· 方块电阻的测量结果和分析
第52-53 页
· 单晶硅和多晶硅扩散比较的结果和分析
第53-55 页
· 氧化对方块电阻的影响实验结果和分析
第55-56 页
· 改进扩散和氧化均匀性的结果和分析
第56-57 页
· 氮化硅膜的实验结果和分析
第57-58 页
· 扩散条件的实验结果和分析
第58-62 页
· 等离子体刻蚀实验结果和分析
第62-66 页
第五章 结论和展望
第66-68 页
· 结论
第66 页
· 存在的问题和展望
第66-68 页
参考文献
第68-72 页
致谢
第72 页
本篇论文共
72
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