三氧化钨氢敏材料的制备及其性能研究



三氧化钨氢敏材料的制备及其性能研究

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三氧化钨氢敏材料的制备及其性能研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-11页
第一章绪论	第11-21页
· 课题研究的意义	第11-12页
· 氢敏材料及器件的研究现状	第12-20页
· 电化学型氢敏材料与器件	第12-13页
· 半导体型氢敏材料与器件	第13-15页
· 金属氧化物型半导体氢敏材料与器件	第13-14页
· 肖特基二极管型半导体氢敏材料与器件	第14-15页
· 热电型氢敏材料与器件	第15-16页
· 光学型氢敏材料与器件	第16-20页
· 氢敏金属单质及其合金	第17-18页
· 氢敏金属氧化物及其掺杂	第18-20页
· 本文主要研究内容	第20-21页
第二章 WO_3薄膜的晶体结构、性质及制备方法	第21-31页
· 引言	第21页
· WO_3的晶体结构及性质	第21-24页
· WO_3的晶体结构	第21-22页
· WO_3薄膜的结构缺陷	第22-23页
· WO_3的基本性质	第23-24页
· WO_3薄膜的变色特性及应用	第24-27页
· WO_3的电致变色特性及其应用	第24-25页
· WO_3的气致变色特性及其应用	第25-26页
· WO_3的光致变色特性及其应用	第26-27页
· WO_3的热致变色特性及其应用	第27页
· WO_3薄膜的制备方法	第27-29页
· 溶胶-凝胶法	第27-28页
· 真空蒸发法	第28-29页
· 溅射法	第29页
· 本章小结	第29-31页
第三章 WO_3溅射薄膜的制备及性能测试	第31-48页
· 引言	第31页
· 实验部分	第31-34页
· 主要实验材料和试剂	第31页
· 主要实验仪器	第31-32页
· 实验前的准备	第32页
· 镀膜实验步骤	第32-34页
· 薄膜的热处理	第34页
· WO_3薄膜的表征	第34-40页
· X射线衍射分析	第35-36页
· 紫外-可见分光光谱分析(UV-Visible Spectroscopy,UV-Vis)	第36-39页
· 扫描电子显微分析	第39-40页
· WO_3薄膜的氢气敏感性能测试	第40-46页
· WO_3薄膜的氢敏性能测试及结果分析	第41-43页
· WO_3膜厚对氢气敏感特性的影响	第43-44页
· Pd/WO_3薄膜对氢气敏感的重复性	第44-46页
· 本章小结	第46-48页
第四章 WO_3溶胶-凝胶薄膜的制备及性能测试	第48-59页
· 引言	第48页
· 实验部分	第48-50页
· 主要实验材料和试剂	第48页
· 主要实验仪器	第48-49页
· 实验前的准备	第49页
· 离子交换法制备WO_3薄膜	第49-50页
· WO_3薄膜的表征	第50-52页
· X射线衍射分析	第51页
· 紫外-可见分光光谱分析	第51-52页
· 扫描电子显微分析	第52页
· WO_3薄膜的氢气敏感性能测试	第52-57页
· WO_3薄膜的氢敏性能测试及结果分析	第53-55页
· WO_3薄膜对氢气敏感的重复性	第55-56页
· Pt/WO_3薄膜在不同氢气浓度下的气敏性	第56-57页
· 本章小结	第57-59页
第五章 WO_3氢敏薄膜的性能比较及机理分析	第59-66页
· 引言	第59页
· WO_3基薄膜样品的氢敏性能比较	第59-61页
· WO_3薄膜的氢敏机理	第61-62页
· WO_3薄膜的激光拉曼图谱分析	第62-63页
· WO_3薄膜的掺杂改性	第63-64页
· 本章小结	第64-66页
第六章总结与展望	第66-68页
· 主要结论	第66-67页
· 课题展望	第67-68页
参考文献	第68-76页
作者在攻读硕士学位期间发表的论文	第76-77页
致谢	第77 页

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