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基于新型人工电磁材料的发射率可控表面与反射阵天线的设计

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基于新型人工电磁材料的发射率可控表面与反射阵天线的设计
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第一章 绪论第8-16页
  1.1 论文的研究背景第8-10页
  1.2 新型人工电磁材料的基本概念第10-11页
  1.3 新型人工电磁材料的发展历史第11-14页
  1.4 本论文的研究内容和安排第14-16页
第二章 基于新型人工电磁材料的可控发射率表面设计第16-38页
  2.1 发射率简介第16-22页
    2.1.1 发射率的基本概念及应用第16-19页
    2.1.2 改变发射率的传统方法第19-20页
    2.1.3 基于新型人工电磁材料的发射率可控表面第20-22页
  2.2 遗传算法简介第22-27页
  2.3 近红外发射率可控表面的设计第27-36页
    2.3.1 引言第27-28页
    2.3.2 设计原理第28-31页
    2.3.3 设计过程第31-34页
    2.3.4 结果分析第34-36页
  2.4 本章小结第36-38页
第三章 基于新型人工电磁材料的圆极化反射阵天线设计第38-60页
  3.1 反射阵天线的概念和发展现状第38-44页
    3.1.1 反射阵天线的概念第38-40页
    3.1.2 反射阵天线的发展历史和现状第40-42页
    3.1.3 新型人工电磁材料在反射阵天线中的应用第42-44页
  3.2 Metamaterial反射阵天线的设计第44-58页
    3.2.1 反射阵天线的单元设计第45-50页
    3.2.2 反射阵天线的馈源设计第50-52页
    3.2.3 反射阵天线的整体设计第52-58页
  3.3 本章小结第58-60页
第四章 结束语第60-62页
  4.1 论文工作总结第60-61页
  4.2 进一步的研究方向第61-62页
参考文献第62-68页
攻读硕士期间的研究成果第68-70页
致谢第70页

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