热丝CVD法添加辅助气体制备金刚石薄膜及其发射光谱的研究



热丝CVD法添加辅助气体制备金刚石薄膜及其发射光谱的研究

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热丝CVD法添加辅助气体制备金刚石薄膜及其发射光谱的研究

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-11页
第1章绪论	第11-27页
· 引言	第11页
· 热丝CVD沉积金刚石薄膜的研究概况	第11-18页
· 热丝 CVD 金刚石进展	第12-13页
· 基片的选择及预处理	第13-15页
· 形核	第15-16页
· 生长	第16-17页
· 关于生长方法的其他研究	第17-18页
· 热丝CVD金刚石涂层的表征	第18-24页
· 本文研究的目的意义及研究内容	第24-27页
第2章氩气在HFCVD制备金刚石薄膜过程中的影响	第27-39页
· 引言	第27-28页
· 实验	第28-29页
· 实验试剂及设备	第28页
· 实验方案设计	第28-29页
· 实验结果与分析	第29-37页
· 薄膜表面形貌和质量分析	第29-33页
· 氩气与生长速率	第33-37页
· 本章结论	第37-39页
第3章等离子体空间分布研究	第39-49页
· 引言	第39页
· 实验	第39-41页
· 实验结果与分析	第41-48页
· 基团横向分布	第41-44页
· 基团纵向分布	第44-48页
· 本章结论	第48-49页
第4章碳源浓度的发射光谱法研究	第49-57页
· 引言	第49页
· 实验	第49-50页
· 实验结果与分析	第50-55页
· 本章结论	第55-57页
第5章总结与展望	第57-59页
· 总结	第57-58页
· 展望	第58-59页
参考文献	第59-67页
攻读硕士期间发表的论文	第67-69页
致谢	第69页

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