低损耗大尺寸微波单晶薄膜外延及原位集成器件技术



低损耗大尺寸微波单晶薄膜外延及原位集成器件技术

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低损耗大尺寸微波单晶薄膜外延及原位集成器件技术

论文目录
摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-10页
第一章绪论	第10-19页
1.1 引言	第10-11页
1.2 石榴石YIG微波薄膜发展趋势	第11-14页
1.3 钇铁石榴石材料应用方向	第14-15页
1.4 环行器分类以及发展现状	第15-16页
1.5 研究目的及意义	第16-17页
1.6 论文结构安排	第17-19页
第二章钇铁石榴石材料概述	第19-31页
2.1 引言	第19页
2.2 钇铁石榴石(YIG)材料介绍及性能指标	第19-25页
2.2.1 YIG晶体结构以及取代方式	第19-20页
2.2.2 钇铁石榴石材料磁性来源	第20-22页
2.2.3 铁磁共振现象	第22-24页
2.2.4 薄膜磁各向异性来源	第24-25页
2.3 射频磁控溅射	第25-27页
2.3.1 溅射薄膜组分分析	第25-26页
2.3.2 退火工艺	第26-27页
2.4 液相外延	第27-30页
2.4.1 溶质分类	第27页
2.4.2 外延单晶生长机理	第27-29页
2.4.3 包晶生长过程	第29-30页
2.5 本章小结	第30-31页
第三章 YIG单晶薄膜的制备	第31-52页
3.1 引言	第31-32页
3.2 气相外延YIG单晶薄膜	第32-41页
3.2.1 靶材制备	第33-34页
3.2.2 退火对YIG薄膜性能影响	第34-38页
3.2.3 镧掺杂对薄膜的影响	第38-41页
3.3 液相外延YIG微波单晶薄膜	第41-50页
3.3.1 熔体配制原理及方法	第41-43页
3.3.2 衬底准备	第43-44页
3.3.3 转速对生长的影响	第44-48页
3.3.4 衬底晶向对外延膜性能影响	第48-50页
3.4 厚La-YIG薄膜制备	第50-51页
3.5 本章小结	第51-52页
第四章环行器设计制作和应用	第52-70页
4.1 引言	第52页
4.2 铁氧体环行器设计	第52-56页
4.2.1 环行器环行条件推导	第53-54页
4.2.2 共面波导环行器初值	第54-56页
4.3 环行器设计仿真	第56-57页
4.4 光刻	第57-61页
4.4.1 掩膜版设计	第57-58页
4.4.2 光刻流程	第58-60页
4.4.3 信号线制作	第60-61页
4.5 环行器测试部分	第61-68页
4.5.1 测试设备介绍	第61-62页
4.5.2 偏置磁场提供方法	第62页
4.5.3 测试结果及结果分析	第62-68页
4.6 发射机设计	第68-69页
4.7 本章小结	第69-70页
第五章全文总结与展望	第70-72页
5.1 全文总结	第70-71页
5.2 后续工作展望	第71-72页
致谢	第72-73页
参考文献	第73-77页
攻读硕士学位期间取得的研究成果	第77-78页

本篇论文共78页，点击这进入下载页面。

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