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硅基光波导的结构优化及表面光滑化机理研究

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硅基光波导的结构优化及表面光滑化机理研究
论文目录
 
摘要第1-5页
abstract第5-10页
第一章 绪论第10-26页
  1.1 课题研究背景与意义第10-14页
  1.2 国内外研究现状第14-21页
    1.2.1 纳米光栅耦合器第14-18页
    1.2.2 波导表面光滑化处理第18-21页
  1.3 本文研究思路及关键技术问题第21-23页
  1.4 论文研究内容及结构安排第23-26页
第二章 硅基光栅耦合理论和波导表面光滑机理第26-40页
  2.1 光波导的耦合特性第26-30页
  2.2 硅基光栅的耦合理论第30-35页
    2.2.1 硅基光栅的衍射条件第30-33页
    2.2.2 硅基光栅耦合结构模型第33-35页
  2.3 表面粗糙度对波导传输损耗的影响第35-39页
  2.4 本章小结第39-40页
第三章 垂直耦合光栅结构优化设计第40-56页
  3.1 垂直耦合光栅的参数优化设计第41-48页
    3.1.1 OptiFDTD仿真环境第41-43页
    3.1.2 光栅结构参数耦合效率的影响第43-47页
    3.1.3 入射光参数对耦合效率的影响第47-48页
  3.2 垂直耦合光栅的耦合模式优化设计第48-55页
    3.2.1 垂直耦合光栅优化结构模型第48-50页
    3.2.2 添加后反射器的垂直耦合光栅第50-52页
    3.2.3 添加增透膜的垂直耦合光栅第52-55页
  3.3 本章小结第55-56页
第四章 SOI硅基光波导表面光滑化第56-72页
  4.1 硅基波导表面光滑化模型构建第56-62页
    4.1.1 表面光滑化模拟的力场设定第57-58页
    4.1.2 表面光滑化模拟的系综选择第58-59页
    4.1.3 硅基光波导表面光滑化模型第59-62页
  4.2 硅氢键流密度法改善波导表面形貌的模拟研究第62-67页
    4.2.1 高温氢气氛围对波导表面形貌的影响第62-63页
    4.2.2 硅氢键个数对硅波导表面形貌的影响第63-65页
    4.2.3 硅氢键位置对硅波导表面形貌的影响第65-67页
  4.3 硅氢键流密度法改善波导表面形貌的实验验证第67-71页
    4.3.1 实验系统平台第67-68页
    4.3.2 实验测试结果第68-71页
  4.4 本章小结第71-72页
第五章 总结与展望第72-74页
  5.1 总结第72-73页
  5.2 展望第73-74页
参考文献第74-80页
致谢第80-82页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及所取得的研究成果第82页

本篇论文共82页,点击这进入下载页面
 
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