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镁合金表面离子束复合形成Ti-Al-N薄膜研究
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镁合金表面离子束复合形成Ti-Al-N薄膜研究
论文目录
 
致谢第1-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-11页
目录第11-14页
图清单第14-15页
附表清单第15-16页
1 绪论第16-33页
　　· 镁与镁合金第16-19页
　　　　· 镁的物理化学性质第16-18页
　　　　· 镁系合金的特点及其应用第18-19页
　　· 镁合金的腐蚀第19-22页
　　　　· 镁的电化学特性第19-21页
　　　　· 镁及镁合金的腐蚀类型第21页
　　　　· 影响镁合金腐蚀性的因素第21-22页
　　· 表面工程第22-24页
　　　　· 表面工程的作用第22页
　　　　· 表面工程的意义第22-24页
　　· 镁合金表面防腐第24-29页
　　　　· 镁合金表面防腐方法第25-28页
　　　　· 镁合金表面防腐蚀处理现状第28-29页
　　· Ti-Al-N 薄膜第29-31页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜概述第29页
　　　　· Al 在 Ti-Al-N 薄膜中的作用第29-30页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜的性能第30-31页
　　· 本文主要研究内容和创新点第31-33页
2 实验材料与测试方法第33-37页
　　· 实验材料第33页
　　· 实验设备第33-35页
　　· 检测方法第35-37页
　　　　· X 射线衍射分析（XRD）第35页
　　　　· 扫描电镜（SEM）第35-36页
　　　　· 厚度测试第36页
　　　　· 金相显微第36页
　　　　· 掠入射 XRD第36页
　　　　· 电化学腐蚀第36页
　　　　· 摩擦磨损第36-37页
3 直流磁控溅射工艺参数的优化第37-48页
　　· 磁控溅射第37-41页
　　· 磁控溅射工艺优化第41-47页
　　　　· 纯 Ti 靶的磁控溅射工艺参数优化第42-45页
　　　　· 纯 Al 靶的磁控溅射工艺参数优化第45-47页
　　· 本章小结第47-48页
4 镁合金表面 Ti-Al-N 薄膜复合制备第48-68页
　　· 磁控溅射离子注入复合技术第48-52页
　　　　· 离子注入技术第48-51页
　　　　· 表面复合技术第51-52页
　　· 实验设计与工艺参数第52-56页
　　　　· 实验设计与理论依据第52-54页
　　　　· 实验参数第54-56页
　　· 实验结果分析第56-67页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜表面形貌第56-59页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜物 AFM 分析第59-61页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜膜物像分析第61-62页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜厚度测量第62-65页
　　　　· Ti-Al-N 薄膜基附着力第65-67页
　　· 本章小结第67-68页
5 纯钛过渡离子束复合形成 Ti-Al-N 薄膜第68-85页
　　· Ti-Al-N 薄膜工艺改进可行性分析第68-70页
　　　　· 多元化方法可行性分析第68-69页
　　　　· 多层化方法可行性分析第69页
　　　　· 多重处理方法可行性分析第69-70页
　　　　· 采用 Ti 过渡层的可行性分析第70页
　　· 纯 Ti 过渡层工艺优化参数第70-71页
　　· 纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜附着力测试第71页
　　· 纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜物相分析第71-73页
　　· 纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜耐磨性能测试第73-77页
　　· 纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜耐腐蚀性能测试第77-84页
　　　　· 极化曲线第77-78页
　　　　· 塔菲尔直线外推第78-79页
　　　　· 电化学测试平台第79-81页
　　　　· 纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜电化学测试结果第81-84页
　　· 本章小结第84-85页
6 结论第85-87页
参考文献第87-92页
作者简介第92 页

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