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90纳米CMOS图像传感器生产工艺优化

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90纳米CMOS图像传感器生产工艺优化
论文目录
 
摘要第1-4页
ABSTRACT第4-5页
第一章 绪论第5-12页
  · 引言第5-6页
  · CMOS图像传感器的优点和发展第6-12页
第二章 CMOS图像传感器工作原理简介第12-19页
  · 光电二极管简介第12-13页
  · CMOS图像传感器的发展第13-17页
  · CMOS图像传感器对生产工艺的要求以及本课题的方向第17-19页
第三章 90纳米CIS浅沟槽隔离工艺优化第19-29页
  · STI工艺介绍第19-24页
    · STI沟槽顶角圆化的提出第21-24页
  · STI沟槽顶角圆化方法第24-29页
    · STI干法蚀刻工艺优化第24-25页
    · STI Linear Oxide Pre-clean工艺优化第25-29页
第四章 90纳米CIS工艺层间介质层工艺优化第29-37页
  · 层间介质层工艺介绍第29-30页
  · 层间介质层工艺优化方法第30-37页
    · ILD CMP工艺优化第31-33页
    · ILD薄膜淀积工艺优化第33-37页
第五章 总结和展望第37-39页
参考文献第39-41页
致谢第41-42 页

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