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构建高频声表面波滤波器的金刚石多层膜的研制
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构建高频声表面波滤波器的金刚石多层膜的研制
论文目录
 
摘要第1-6 页
ABSTRACT第6-9 页
第一章 绪论第9-20 页
　　· 研究背景及意义第9-11 页
　　　　· SAW技术的发展概况第9-10 页
　　　　· 研究意义第10-11 页
　　· 声表面波滤波器第11-18 页
　　　　· SAWF的基本原理及其特点第11-13 页
　　　　· SAWF的基本特性第13-14 页
　　　　· SAWF的发展及应用第14-16 页
　　　　· 高频SAWF的实现第16-18 页
　　· 国内外研究现状第18-19 页
　　· 本论文的主要工作第19-20 页
第二章 金刚石薄膜的基本性质、制备方法与测试手段第20-37 页
　　· 金刚石薄膜简介第20-24 页
　　　　· 基本结构第20 页
　　　　· 基本性质与应用第20-24 页
　　· 金刚石薄膜的制备方法第24-30 页
　　　　· 热丝CVD法(HFCVD)第25-26 页
　　　　· 微波等离子体CVD法(MW-PCVD)第26-29 页
　　　　· 直流等离子体喷射CVD法(DC Plasma Jet CVD)第29-30 页
　　· 金刚石薄膜的表征手段第30-37 页
　　　　· X—射线衍射第31-32 页
　　　　· 原子力显微镜(AFM)第32-34 页
　　　　· 拉曼光谱(Raman)第34-35 页
　　　　· 电阻率测量方法—Van der Pauw探针法第35-37 页
第三章 高声速材料金刚石薄膜的制备第37-50 页
　　· 本论文所采用的实验方法第37-38 页
　　· 金刚石薄膜的沉积第38-48 页
　　　　· 灯丝的碳化第39-42 页
　　　　· 形核第42-46 页
　　　　· 薄膜生长第46-48 页
　　· 粗糙度测试第48-49 页
　　· 小结第49-50 页
第四章 磁控溅射法制备压电薄膜ZnO第50-67 页
　　· 引言第50-56 页
　　　　· 压电薄膜ZnO基本结构与性质第51 页
　　　　· ZnO薄膜的制备方法第51-56 页
　　· Si衬底上ZnO的溅射生长第56-61 页
　　　　· 衬底对薄膜取向的影响第56-59 页
　　　　· 其它参数对薄膜性质的影响第59-61 页
　　　　· 结论第61 页
　　· 金刚石薄膜上ZnO的溅射生长第61-66 页
　　　　· 直流磁控溅射生长ZnO薄膜第62-63 页
　　　　· 射频磁控溅射生长ZnO薄膜第63-66 页
　　· 小结第66-67 页
结论第67-68 页
参考文献第68-72 页
攻读硕士学位期间发表的论文第72 页
攻读硕士学位期间参与的科研项目第72-73 页
致谢第73 页

本篇论文共73页，点击这进入下载页面。
 
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