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SiHCl3/H2外延生长单晶硅反应机理的理论研究
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SiHCl3/H2外延生长单晶硅反应机理的理论研究
论文目录
 
目录第1-6 页
中文摘要第6-7 页
关键词第7-8 页
第一章 前言第8-16 页
　　· 气相外延生长单晶硅理论研究的重要意义第8-9 页
　　· 气相外延生长单晶硅的研究现状第9-13 页
　　　　1 实验研究现状第9-11 页
　　　　2 理论研究现状第11-13 页
　　· 展望第13 页
　　· 本论文工作第13-14 页
　　参考文献第14-16 页
第二章 理论基础和计算方法第16-31 页
　　· 组态相互作用理论第18-19 页
　　· 微扰理论第19-21 页
　　· 密度泛函理论第21-23 页
　　· 反应速率常数理论第23-24 页
　　· 振动频率的计算第24-25 页
　　　　1 谐振频率的计算第24-25 页
　　　　2 零点振动能第25 页
　　· 化学反应过渡态的计算方法第25-29 页
　　　　1 化学反应过渡态的数学模型第26-27 页
　　　　2 过渡态的计算方法第27-29 页
　　参考文献第29-31 页
第三章 SiHCl_3／H_2气相反应机理的理论研究第31-41 页
　　· 计算方法第31 页
　　· 结果与讨论第31-37 页
　　　　1 反应机理分析第31-35 页
　　　　2 沿反应途径能量的变化第35-37 页
　　· 速率常数的计算第37-38 页
　　· 结论第38 页
　　参考文献第38-41 页
第四章 SiHCl_3／H_2在衬底表面上反应机理的理论研究第41-54 页
　　· 计算方法第41-42 页
　　· 结果与讨论第42-52 页
　　　　· 加入Si_1第42-44 页
　　　　　　1 反应机理分析第42-43 页
　　　　　　2 沿反应途径能量的变化第43-44 页
　　　　　　3 反应速率常数的计算第44 页
　　　　· 加入Si_2第44-47 页
　　　　　　1 反应机理分析第44-46 页
　　　　　　2 沿反应途径能量的变化第46 页
　　　　　　3 反应速率常数的计算第46-47 页
　　　　· 加入Si_9H_(12)第47-52 页
　　　　　　1 反应机理分析第47-50 页
　　　　　　2 沿反应途径能量的变化第50 页
　　　　　　3 反应速率常数的计算第50-52 页
　　· 结论第52 页
　　参考文献第52-54 页
第五章 SiCl_2／H_2反应生成单晶硅的理论研究第54-62 页
　　· 计算方法第54 页
　　· 结果与讨论第54-60 页
　　　　· SiCl_2／H_2在气相中的反应第55-57 页
　　　　　　1 反应机理分析第55-56 页
　　　　　　2 沿反应途径能量的变化第56 页
　　　　　　3 反应速率常数的计算第56-57 页
　　　　· SiCl_2／H_2在衬底上的反应第57-60 页
　　　　　　1 反应机理分析第57-59 页
　　　　　　2 沿反应途径能量的变化第59 页
　　　　　　3 反应速率常数的计算第59-60 页
　　· 结论第60-62 页
第六章 总结第62-64 页
英文摘要第64-67 页
致谢第67-68 页

本篇论文共68页，点击这进入下载页面。
 
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