论文目录 | |
| 摘要 | 第1-4
页 |
| Abstract | 第4-10
页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25
页 |
| · 研究的目的和意义 | 第10
页 |
| · 光促表面化学反应研究概况 | 第10-16
页 |
| · 光促表面催化反应的原理 | 第10-12
页 |
| · 光促表面催化反应的评价 | 第12-13
页 |
| · 光催化材料活性的影响因素 | 第13
页 |
| · 材料晶体结构对光催化活性的影响 | 第13
页 |
| · 材料表面积对光催化活性的影响 | 第13
页 |
| · 光催化材料活性增强途径 | 第13-16
页 |
| · 负载金属 | 第14
页 |
| · 复合半导体 | 第14-15
页 |
| · 加入载流子俘获剂 | 第15
页 |
| · 小尺寸效应及光量子效应 | 第15-16
页 |
| · CO_2催化还原研究概况 | 第16-21
页 |
| · CO_2分子结构分析 | 第16-17
页 |
| · CO_2的吸附活化 | 第17-19
页 |
| · CO_2光催化还原的研究进展 | 第19-21
页 |
| · CH_4 与CO_2 直接合成乙酸的研究现状 | 第21-22
页 |
| · CH_4光催化氧化反应的研究概况 | 第21
页 |
| · CH_4与CO_2直接合成乙酸的研究现状和存在问题 | 第21-22
页 |
| · 本课题的研究目的、构思、内容与创新点 | 第22-25
页 |
| · 研究目的 | 第22-23
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| · 研究构思 | 第23-24
页 |
| · 研究内容 | 第24
页 |
| · 创新点 | 第24-25
页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-36
页 |
| · 光催化材料的设计 | 第25-27
页 |
| · 载体物质的选择 | 第25
页 |
| · 复合半导体表面活性组分的设计和选择 | 第25-27
页 |
| · 光催化材料的制备 | 第27-29
页 |
| · 光催化材料制备方法的选择 | 第27
页 |
| · 主要原料与试剂 | 第27
页 |
| · 表面反应改性法制备 TiO_2/SiO_2 | 第27
页 |
| · 负载型复合氧化物的制备 | 第27-29
页 |
| · V_2O_5-TiO_2/SiO_2 及相关材料的制备 | 第27-28
页 |
| · CeO_2-TiO_2/SiO_2 及相关材料的制备 | 第28-29
页 |
| · 金属Cu 的引入 | 第29
页 |
| · 光催化材料的表征方法 | 第29-33
页 |
| · 程序升温还原表征（TPR） | 第29-30
页 |
| · 比表面积测定（BET） | 第30
页 |
| · X-射线衍射分析（XRD） | 第30
页 |
| · 红外光谱分析（IR） | 第30-32
页 |
| · 紫外－可见漫反射光谱（UV－vis DRS） | 第32
页 |
| · 化学吸附性能表征 | 第32-33
页 |
| · 固体－气体化学吸附红外光谱分析 | 第32
页 |
| · 程序升温脱附－质谱（TPD－MS）实验 | 第32-33
页 |
| · 光促表面催化反应性能评价实验 | 第33-36
页 |
| · 光促表面催化反应-色谱实验（PSSR-GC） | 第33-35
页 |
| · 光促表面催化反应性能的评价 | 第35-36
页 |
| 第三章 光催化材料的结构表征 | 第36-42
页 |
| · 光催化材料的比表面积 | 第36-38
页 |
| 3.2.X 射线衍射（XRD）分析结果 | 第36
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的XRD 分析结果 | 第36-37
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2 的XRD 分析结果 | 第37-38
页 |
| · IR 测定结果分析 | 第38-39
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的IR 测定结果 | 第38
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2 的IR 测定结果 | 第38-39
页 |
| · 程序升温还原（TPR）结果 | 第39-41
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的TPR 结果分析 | 第39-40
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2 的TPR 结果分析 | 第40-41
页 |
| · 光催化材料的表面结构模型 | 第41
页 |
| · 小结 | 第41-42
页 |
| 第四章 光催化材料的光响应性能和能带结构 | 第42-49
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的光响应性能及能带结构 | 第42-46
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的光响应性能 | 第42-43
页 |
| · 半导体材料Eg 值的测定 | 第43-44
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2 的能带结构 | 第44-46
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2 的光响应性能及能带结构 | 第46-48
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2的光响应性能 | 第46-47
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2的能带结构 | 第47-48
页 |
| · 小结 | 第48-49
页 |
| 第五章 光催化材料的化学吸附性能 | 第49-59
页 |
| · CO_2 在光催化材料表面的化学吸附 | 第49-55
页 |
| · CO_2 在复合氧化物上的化学吸附IR 结果 | 第49-50
页 |
| · V_2O_5-TiO_2/SiO_2 化学吸附CO_2 的IR 结果 | 第49-50
页 |
| · CeO_2-TiO_2/SiO_2 化学吸附CO_2 的IR 结果 | 第50
页 |
| · CO_2在Cu/复合氧化物上的化学吸附IR 结果 | 第50-52
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2化学吸附CO_2的IR结果 | 第50-51
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2化学吸附CO_2的IR结果 | 第51-52
页 |
| · CO_2化学吸附的TPD-MS 结果 | 第52-53
页 |
| · CO_2在光催化材料上的化学吸附机理和模型 | 第53-55
页 |
| · CH_4 在光催化材料表面的化学吸附 | 第55-58
页 |
| · CH_4 在光催化材料上的化学吸附IR 结果 | 第55-57
页 |
| · Cu/V_2O_5-TiO_2/SiO_2化学吸附CH_4的IR结果 | 第55-56
页 |
| · Cu/CeO_2-TiO_2/SiO_2化学吸附CH_4的IR结果 | 第56-57
页 |
| · CH_4化学吸附的TPD-MS 结果 | 第57
页 |
| · 光催化材料表面CH_4的化学吸附机理和模型 | 第57-58
页 |
| · 小结 | 第58-59
页 |
| 第六章 光催化材料反应性能评价及机理推测 | 第59-66
页 |
| · 热表面催化反应结果 | 第59
页 |
| · CO_2 与CH_4 的气相光催化反应结果 | 第59
页 |
| · 光促表面催化反应（PSSCR-GC）实验结果 | 第59-60
页 |
| · 反应条件对光催化反应性能的影响 | 第60-62
页 |
| · 反应温度对光催化反应性能的影响 | 第60-62
页 |
| · 空速对光催化反应性能的影响 | 第62
页 |
| · 气固光催化甲烷与二氧化碳合成乙酸的机理探讨 | 第62-64
页 |
| · “光－表面－热”协同作用的探讨与思考 | 第64-65
页 |
| · 小结 | 第65-66
页 |
| 第七章 结论 | 第66-68
页 |
| 参考文献 | 第68-75
页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第75-76
页 |
| 发表论文: | 第75
页 |
| 参加科研情况: | 第75-76
页 |
| 附录 | 第76-77
页 |
| 附录 1 紫外线高压汞灯的相对能量光谱图及辐照照度 | 第76
页 |
| 附录 2 各物质在 TCD 上相对摩尔校正因子 | 第76
页 |
| 附录 3 各组分含量的计算(以 Cu/V_2O5-TiO_2/SiO_2 120℃反应为例) | 第76-77
页 |
| 致谢 | 第77
页 |
