原子层沉积制备的HfO
2
高K栅介质材料特性研究
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原子层沉积制备的HfO
2
高K栅介质材料特性研究
论文目录
摘要
第1-6 页
Abstract
第6-7 页
目录
第7-10 页
第1章 绪论
第10-15 页
· 集成电路的发展
第10-12 页
· 研究高K栅介质材料的意义
第12-15 页
第2章 原子层沉积技术
第15-25 页
· 引言
第15 页
· 原子层沉积技术的原理
第15-21 页
· ALD工艺流程
第15-17 页
· ALD前驱体
第17-18 页
· ALD的工艺窗口
第18-19 页
· ALD自限制生长原理
第19 页
· ALD工艺的优越性
第19-20 页
· Savannah-100型原子层沉积系统
第20-21 页
· 原子层沉积技术的应用
第21-22 页
· 各种薄膜制备技术的比较
第22-24 页
· 本章总结
第24-25 页
第3章 RCA标准清洗工艺
第25-27 页
· 硅片清洗的重要意义
第25 页
· 硅片清洗的工艺原理
第25 页
· RCA清洗工艺流程
第25-27 页
第4章 真空蒸镀
第27-29 页
第5章 基于LabVIEW设计的光电致发光测试系统
第29-38 页
· 引言
第29 页
· 硬件系统
第29-32 页
· 设备连接
第29-30 页
· 测量原理
第30-32 页
· 软件设计
第32-35 页
· GPIB通讯
第32 页
· ActiveX控件
第32 页
· 程序结构
第32-35 页
· 光电测试
第35-37 页
· 本章总结
第37-38 页
第6章 硅衬底上原子层沉积HfO_2薄膜
第38-55 页
· 引言
第38-39 页
· 实验流程
第39-42 页
· 硅片的RCA清洗
第39 页
· 原子层沉积HfO_2薄膜
第39-41 页
· HfO_2薄膜的高温热处理
第41 页
· 真空蒸镀铝电极
第41-42 页
· 薄膜测试原理
第42-46 页
· 原子力显微镜(AFM)
第42-43 页
· X射线光电子能谱(XPS)
第43-45 页
· X射线衍射(XRD)
第45-46 页
· 测试结果分析
第46-54 页
· AFM测试结果分析
第46-49 页
· XPS测试结果分析
第49-52 页
· XRD测试结果分析
第52 页
· Ⅰ-Ⅴ测试结果分析
第52-54 页
· 本章总结
第54-55 页
第7章 总结与展望
第55-57 页
· 论文总结
第55-56 页
· 未来展望
第56-57 页
参考文献
第57-62 页
攻读硕士期间发表的论文
第62-63 页
致谢
第63-64 页
个人简历
第64-65 页
本篇论文共
65
页,
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。
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