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CVD法制备定向纳米碳管及其表征
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CVD法制备定向纳米碳管及其表征
论文目录
 
中文摘要第1-3 页
英文摘要第3-4 页
目录第4-6 页
第一章 文献综述与研究目的第6-29 页
　　1．1 简介第6-9 页
　　1．2 组装法第9-10 页
　　1．3 原位合成法第10-19 页
　　　　1．3．1 预置催化剂热CVD法第10-16 页
　　　　　　1．3．1．1 氧化铝模板第10-13 页
　　　　　　1．3．1．2 多孔硅及二氧化硅第13-14 页
　　　　　　1．3．1．3 平基板第14-16 页
　　　　1．3．2 浮动催化剂法第16-17 页
　　　　　　1．3．2．1 二茂铁第16-17 页
　　　　　　1．3．2．2 酞菁铁第17 页
　　　　1．3．3 增强CVD法第17-18 页
　　　　1．3．4 生长机理第18-19 页
　　1．4 性能与应用第19-21 页
　　　　1．4．1 场发射性能第19-20 页
　　　　1．4．2 储氢性能第20 页
　　　　1．4．3 超疏水性与疏油性第20 页
　　　　1．4．4 红外探测器第20-21 页
　　　　1．4．5 传感器第21 页
　　　　1．4．6 电极材料第21 页
　　1．5 研究目的第21-22 页
　　参考文献第22-29 页
第二章 测试表征方法基本原理简介第29-32 页
　　2．1 透射电镜（TEM）第29 页
　　2．2 扫描电镜（SEM）和能量色散谱（EDS）第29 页
　　2．3 激光拉曼光谱分析第29-30 页
　　2．4 原子力显微镜（AFM）第30-31 页
　　参考文献第31-32 页
第三章 氧化铝模板的制备与表征第32-39 页
　　3．1 前言第32-33 页
　　3．2 实验第33-34 页
　　　　3．2．1 实验材料及所用化学试剂第33 页
　　　　3．2．2 实验仪器第33-34 页
　　　　3．2．3 实验过程第34 页
　　3．3 结果与讨论第34-37 页
　　　　3．3．1 SEM和TEM结果第34-36 页
　　　　3．3．2 AFM结果第36-37 页
　　3．4 小结第37 页
　　参考文献第37-39 页
第四章 氧化铝模板上纳米碳管的生长第39-54 页
　　4．1 前言第39 页
　　4．2 实验第39-40 页
　　　　4．2．1 实验原料与器材第39 页
　　　　4．2．2 实验过程第39-40 页
　　4．3 结果与讨论第40-52 页
　　　　4．3．1 一次氧化AAO模板纳米碳管的生长第40-45 页
　　　　　　4．3．1．1 镀钴时间对AAO模板上含钴量的影响第40-43 页
　　　　　　4．3．1．2 纳米碳管的表征第43-45 页
　　　　4．3．2 二次氧化AAO上定向纳米碳管的快速生长第45-50 页
　　　　　　4．3．2．1 时间的影响第46-48 页
　　　　　　4．3．2．2 不同气体流量下碳管的生长情况第48-50 页
　　　　4．3．3 超声切短第50-52 页
　　4．4 小结第52 页
　　参考文献第52-54 页
第五章 硅上定向纳米碳管的生长及其微结构表征第54-63 页
　　5．1 前言第54 页
　　5．2 实验材料与方法第54 页
　　5．3 实验结果与分析第54-62 页
　　　　5．3．1 Fe催化剂的处理与表征第54-55 页
　　　　5．3．2 纳米碳管的SEM表征第55-56 页
　　　　5．3．3 纳米碳管的TEM观察第56-62 页
　　5．4 小结第62 页
　　参考文献第62-63 页
第六章 结论第63-64 页
硕士生期间发表的论文及申请的专利第64-65 页
致谢第65 页

本篇论文共65页，点击这进入下载页面。
 
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