AlN陶瓷表面多层金属化薄膜设计、制备及性能研究



AlN陶瓷表面多层金属化薄膜设计、制备及性能研究

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AlN陶瓷表面多层金属化薄膜设计、制备及性能研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-9页
第1章绪论	第9-21页
· AlN陶瓷基板应用及其存在的问题	第9-13页
· AlN陶瓷基板的性能	第9-11页
· AlN陶瓷基板的研究现状及应用	第11-13页
· AlN陶瓷基板应用需解决的关键问题	第13页
· AlN陶瓷基板表面金属化方法	第13-16页
· 厚膜金属化	第14页
· DBC法	第14-15页
· 化学镀	第15页
· 薄膜金属化	第15页
· 金属化方法比较分析	第15-16页
· AlN陶瓷基板表面金属化研究进展	第16页
· AlN陶瓷基板表面薄膜金属化体系	第16-18页
· 金属化薄膜制备方法	第18-19页
· 真空蒸发镀膜	第18页
· 离子束溅射镀膜	第18-19页
· 磁控溅射镀膜	第19页
· 本课题研究背景和内容	第19-21页
第2章实验方法	第21-28页
· 金属化薄膜体系设计软件	第21页
· AlN陶瓷材料与预处理方法	第21页
· 金属化薄膜制备装置	第21-23页
· ZZS500型电子束蒸发镀膜机	第21-22页
· MIS800型多功能离子束磁控溅射复合镀膜设备	第22-23页
· 金属化薄膜制备工艺方法	第23-24页
· 电子束蒸发镀膜制备工艺	第23页
· 离子束溅射镀膜制备工艺	第23页
· 薄膜退火工艺	第23-24页
· 金属化薄膜组织结构表征方法	第24页
· X射线衍射分析	第24页
· 扫描电子显微分析	第24页
· 光学显微镜	第24页
· 俄歇电子能谱分析	第24页
· 金属化薄膜性能测试方法	第24-26页
· 薄膜厚度的测量	第24-25页
· 薄膜拉脱强度测试	第25页
· 薄膜电性能测试	第25-26页
· 薄膜的应力测试	第26页
· 样品编号说明	第26-28页
第3章 AlN陶瓷表面薄膜金属化体系设计	第28-34页
· AlN陶瓷表面薄膜金属化体系的设计原则	第28-29页
· 粘附层设计原则	第28页
· 导电层设计原则	第28-29页
· AlN陶瓷表面薄膜金属化体系的选择	第29-30页
· AlN陶瓷金属化薄膜工况条件下温度场和应力场模捌	第30-33页
· 建模	第30-31页
· 不同薄膜金属化体系的温度场模拟分析	第31-32页
· 不同薄膜金属化体系的应力场模拟分析	第32-33页
· 小结	第33-34页
第4章金属化薄膜制备工艺研究	第34-42页
· 薄膜沉积速率研究	第34-38页
· 电子束蒸发制备薄膜的沉积速率	第34-36页
· 离子束溅射制备薄膜的沉积速率	第36-37页
· 沉积速率的影响	第37-38页
· 制备方法对择优取向的影响	第38-40页
· 电子束蒸发制备薄膜的择优取向	第39页
· 离子束溅射制备薄膜的择优取向	第39-40页
· 小结	第40-42页
第5章金属化薄膜粘结强度的分析	第42-56页
·引言	第42页
· AlN陶瓷表面状态对粘结强度的影响	第42-49页
· 金属化薄膜粘结强度分析	第43-44页
· 离子束清洗对AlN衬底表面状态的影响	第44-45页
· AlN衬底表面状态对粘结强度的影响	第45-49页
· 退火温度对粘结强度的影响	第49-53页
· 退火后金属化薄膜粘结强度分析	第49页
· 退火温度对金属化薄膜的影响	第49-53页
· 粘结层组成成分对粘结强度的影响	第53-54页
· 制备方法对粘结强度的影响	第54-55页
· 小结	第55-56页
第6章金属化薄膜残余应力分析	第56-62页
· 引言	第56页
· 粘结层组成成分对残余应力的影响	第56-58页
· 离子束清洗对残余应力的影响	第58-61页
· 屏压对残余应力的影响	第59-60页
· 束流对残余应力的影响	第60-61页
· 小结	第61-62页
第7章金属化薄膜电性能分析	第62-67页
· 引言	第62页
· 退火温度对电性能的影响	第62-63页
· 金属化体系对电性能的影响	第63-64页
· 金属化体系电性能的稳定性	第64-65页
· 小结	第65-67页
结论	第67-69页
参考文献	第69-73页
致谢	第73-74页
附录A 攻读硕士期间所发表的学术论文目录	第74页

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