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光反应型聚合物基微流体反应器的制备

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光反应型聚合物基微流体反应器的制备
论文目录
 
摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
第一章 绪论第12-27页
  · 微反应器的概念与定义第13-14页
  · 微反应器的分类第14-15页
    · 气固相催化微反应器第14页
    · 液液相微反应器第14页
    · 气液相微反应器第14-15页
    · 气液固三相催化微反应器第15页
  · 微反应器的主要特征第15-17页
    · 微反应器的几何特性第15页
    · 微反应器内流体的传递特性和宏观流动特性第15-16页
    · 微反应器的优点第16-17页
  · 微反应器的制作材料和技术第17-26页
    · 半导体硅微细加工第18页
    · 微细电火花加工第18页
    · 高能粒子束加工第18-19页
    · LIGA技术第19-20页
    · UV-LIGA技术第20-21页
    · SU-8光刻胶第21-24页
    · 基于SU-8的UV-LIGA技术第24-26页
  · 本论文的研究意义及主要内容第26-27页
第二章 实验内容第27-42页
  · SU-8光刻胶工艺参数的优化第27-31页
    · 实验设计方案第27-28页
    · 实验试剂、设备和仪器第28-29页
    · 实验内容第29-31页
  · 优化SU-8光刻工艺的表征第31-32页
    · 分析表征仪器第31页
    · SU-8光刻样品的扫描电镜测试第31-32页
  · 微流道反应器的设计与制备第32-34页
    · 实验设计方案第32-33页
    · 实验试剂、设备和仪器第33页
    · 实验内容第33-34页
  · 光掩膜及相应微流道结构的表征第34-35页
    · 分析表征仪器第34页
    · SU-8光刻样品的扫描电镜测试第34-35页
  · SU-8微流体反应器的改性第35-41页
    · 实验设计方案第35-36页
    · 实验试剂、设备和仪器第36页
    · 实验内容第36-41页
  · 微流体反应器的改性结果第41-42页
    · 分析表征仪器第41-42页
第三章 结果与讨论第42-60页
  · SU-8光刻工艺的优化第42-48页
    · 前烘、曝光及后烘工艺参数的优化第42-46页
    · SU-8胶层厚度的变化及相应工艺参数的调整第46-48页
  · 微流体反应器的设计与制备第48-56页
    · 光掩膜的设计与制备第48-49页
    · 使用不同光掩膜所得SU-8微流道结构的表征第49-50页
    · 微流道的封盖第50-56页
  · 微流体反应器的改性第56-58页
    · 基体的选择与改性第56页
    · 微流体反应器的亲水化处理第56-58页
  · 微流体反应器的结构与功能第58-60页
第四章 结论第60-61页
  ·SU-8光刻工艺的优化第60页
  ·微流体反应器的制备第60页
  ·微流体反应器的改性第60页
  ·展望第60-61页
参考文献第61-64页
致谢第64-65页
研究成果及发表的学术论文第65-66页
作者简介第66-67页
导师简介第67-68页
附件第68-69页

本篇论文共69页,点击这进入下载页面
 
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