SiC单晶片固结磨料化学机械抛光液设计



SiC单晶片固结磨料化学机械抛光液设计

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SiC单晶片固结磨料化学机械抛光液设计

论文目录
摘要	第1-7页
Abstract	第7-11页
1 绪论	第11-18页
· 论文选题背景	第11-12页
· 碳化硅晶体材料特性	第12-14页
· 碳化硅的晶体结构	第12-13页
· 碳化硅的物理性质	第13-14页
· 碳化硅的化学性质	第14页
· 碳化硅晶体的加工工艺	第14-15页
· 化学机械抛光技术	第15-16页
· 化学机械抛光概述	第15页
· 化学机械抛光的材料去除机理	第15页
· 化学机械抛光的关键技术及存在问题	第15-16页
· 固结磨料化学机械抛光和游离磨料化学机械抛光	第16页
· SiC 晶体基片抛光加工技术	第16-17页
· SiC 游离磨料化学机械抛光的研究现状	第16-17页
· SiC 固结磨料化学机械抛光的研究现状	第17页
· 课题来源及主要研究内容	第17页
· 课题来源	第17页
· 主要研究内容	第17页
· 本章小结	第17-18页
2 SiC 晶体固结磨料化学机械抛光试验条件及研究方法	第18-25页
· 试验仪器与设备	第18-23页
· 抛光试验台	第18-21页
· 检测仪器及设备	第21-23页
· 试验样品	第23页
· 试验设计方法的选择	第23-24页
· 试验数据处理方法的选择	第24页
· 本章小结	第24-25页
3 固结磨料化学机械抛光液基本成分选择	第25-53页
· 影响 SiC 抛光液质量的因素分析	第25-26页
· 抛光液的性能评价指标	第26-27页
· 抛光液的成分对 MRR 和 Ra 的影响	第27-50页
· 磨料的影响	第27-32页
· 分散剂剂的影响	第32-35页
· 无机碱的影响	第35-38页
· 有机碱的影响	第38-44页
· 氧化剂的影响	第44-48页
· 表面活性剂的影响	第48-50页
· 固结磨料化学机械抛光液的确定	第50-52页
· 本章小结	第52-53页
4 化学机械抛光工艺参数研究	第53-66页
· 影响化学机械抛光速率和表面质量的主要因素	第53-54页
· 工艺参数正交实验设计	第54-56页
· 磨粒粒径对抛光的影响	第56-60页
· 温度对 SiC 化学机械抛光的影响	第60-65页
· 氧化剂为双氧水的温度变化实验	第61-63页
· 氧化剂选用高锰酸钾对去除率的影响分析	第63-65页
· 结论	第65-66页
5 固结磨料化学机械抛光液成分优化	第66-76页
· 固结磨料化学机械抛光垫研究	第66-67页
· 固结磨料化学机械抛光液	第67-74页
· 固结磨料抛光垫正交实验	第67-71页
· 固结磨料抛光垫单因素实验	第71-74页
· 研究结论	第74-76页
6 结论与展望	第76-78页
· 研究结论	第76页
· 研究展望	第76-78页
参考文献	第78-81页
致谢	第81-82页
个人简历	第82页

本篇论文共82页，点击这进入下载页面。

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