磁控溅射制备Al膜和Cu膜的结构与性能研究



磁控溅射制备Al膜和Cu膜的结构与性能研究

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磁控溅射制备Al膜和Cu膜的结构与性能研究

论文目录
摘要	第1-4页
Abstract	第4-9页
第一章绪论	第9-30页
· 引言	第9页
· 溅射镀膜原理	第9-14页
· 溅射现象	第9-11页
· 溅射镀膜	第11-12页
· 磁控溅射的工作原理	第12-14页
· Al和Cu薄膜的研究现状和应用背景	第14-25页
· 薄膜结构及内应力的研究现状	第14-17页
· 薄膜光学性质的研究现状	第17-19页
· 薄膜电学性质的研究现状	第19-25页
· 本课题的研究背景和研究内容	第25-26页
参考文献	第26-30页
第二章实验设备与测试方法	第30-34页
· 实验设备简介	第30页
· 衬底清洗	第30-31页
· 实验操作步骤	第31-32页
· 样品测试方法	第32-34页
· X射线衍射	第32页
· 原子力显微镜测试	第32页
· 膜厚测量	第32页
· 薄膜反射率的测量	第32页
· 薄膜电阻率的测量	第32-33页
· 相移干涉测量表面形貌	第33-34页
第三章 Al薄膜直流磁控溅射法的制各及结构性能研究	第34-61页
· 溅射功率对Al薄膜的性能研究	第34-38页
· 溅射功率对Al薄膜沉积速率的影响	第34页
· 溅射功率对Al薄膜密度的影响	第34-35页
· 溅射功率对Al薄膜表面形貌的影响	第35-37页
· 溅射功率对Al薄膜光学性能的研究	第37-38页
· 沉积气压对Al薄膜的影响	第38-42页
· 沉积气压对沉积速率的影响	第38-39页
· 沉积气压对Al薄膜密度的影响	第39页
· 沉积气压对Al薄膜表面形貌的影响	第39-40页
· 沉积气压对Al薄膜的光学性能的影响	第40-42页
· 退火温度对Al薄膜结构与性能的影响	第42-58页
· 退火温度对Al薄膜表面粗糙度的影响	第42-45页
· 退火温度对Al薄膜晶型结构和应力的影	第45-50页
· 低真空度下Al薄膜的退火研究	第45-48页
· 高真空度下Al薄膜的退火研究	第48-50页
· 退火温度对Al薄膜光学性能的影响	第50-53页
· 退火温度对Al薄膜电学性能的影响	第53-57页
· 不同退火温度下Al薄膜电阻率的测量	第53-56页
· 退火研究Al薄膜电阻率与缺陷关系	第56-57页
· 退火后低温(室温-零下140℃)下Al薄膜电学性能的研究	第57-58页
· 小结	第58-60页
参考文献	第60-61页
第四章纳米Cu薄膜的制备与择优取向的初步研究	第61-71页
· Cu薄膜的制各	第61页
· 溅射功率对Cu薄膜沉积速率的影响	第61-62页
· 溅射功率对Cu薄膜表面光洁度的影响	第62-63页
· 衬底对Cu薄膜结构应力和定向取向的影响	第63-66页
· 溅射功率对Cu薄膜结构应力和定向取向的影响	第66-68页
· 不同厚度对Cu薄膜定向取向的影响	第68-69页
· 结论	第69-70页
参考文献	第70-71页
第五章总结及研究展望	第71-73页
· 主要结论	第71-72页
· 本论文的创新点	第72页
· 工作展望	第72-73页
科研成果简介	第73-75页
致谢	第75 页

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